From professional translators, enterprises, web pages and freely available translation repositories.
monolithisch siliciumnitride wordt dankzij de hardheid, thermische stabiliteit en weerstand tegen slijtage gebruikt voor snijdend gereedschap.
bulk, monolithic silicon nitride is used as a material for cutting tools, due to its hardness, thermal stability, and resistance to wear.
naast siliciumnitride worden ook ternaire componenten van silicium, stikstof en waterstof (sinxhy) gebruikt als (elektrisch) isolerende lagen.
not only silicon nitride, but also various ternary compounds of silicon, nitrogen and hydrogen (sinxhy) are used insulating layers.
siliciumnitride films die geschikt zijn voor gebruik in de elektronica-industrie worden gevormd via chemical vapor deposition (cvd), of een van de varianten, zoals plasma-enhanced chemical vapor deposition (pecvd)::3 sih4(g) + 4 nh3(g) → si3n4(s) + 12 h2(g):3 sicl4(g) + 4 nh3(g) → si3n4(s) + 12 hcl(g):3 sicl2h2(g) + 4 nh3(g) → si3n4(s) + 6 hcl(g) + 6 h2(g)om een film van siliciumnitride op een halfgeleider, meestal silicium, te realiseren worden twee methoden gebruikt:# lage druk damp depositie (lpcvd, uit het engels: low pressure chemical vapor deposition) waarbij met een relatief hoge temperatuur gewerkt wordt.
electronic-grade silicon nitride films are formed using chemical vapor deposition (cvd), or one of its variants, such as plasma-enhanced chemical vapor deposition (pecvd)::3 (g) + 4 (g) → (s) + 12 (g):3 (g) + 4 (g) → (s) + 12 hcl(g):3 (g) + 4 (g) → (s) + 6 hcl(g) + 6 (g)for deposition of silicon nitride layers on semiconductor (usually silicon) substrates, two methods are used:#low pressure chemical vapor deposition (lpcvd) technology, which works at rather high temperature and is done either in a vertical or in a horizontal tube furnace, or#plasma-enhanced chemical vapor deposition (pecvd) technology, which works at rather low temperature and vacuum conditions.