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verfahren zur herstellung einer photoresistlösung
method for producing a photoresist solution

verfahren gemäß anspruch 14, wobei die photoresistlösung ein novolakharz, eine lichtempfindliche verbindung und ein lösungsmittel enthält.
the process of claim 14, wherein the photoresist solution comprises a novolak resin, a photosensitive compound and a solvent.

verfahren gemäß anspruch 14, wobei die photoresistlösung ein substituiertes polyhydroxystyrol, eine photoaktive verbindung und ein lösungsmittel enthält.
the process of claim 14, wherein the photoresist solution comprises a substituted polyhydroxystyrene, a photoactive compound and a solvent.

es wurde eine photoresistlösung nach dem in beispiel 15 beschriebenen verfahren hergestellt, wobei jedoch das polymer aus beispiel 12 verwendet wurde.
example 18 a photoresist solution is prepared in the manner of example 15 except the polymer used is that of example 12.

vergleichsbeispiel 1 eine photoresistlösung wurde aus 5 teilen 2-methyl-4-hydroxy-5-isopropyl-phenyl-dimethylsulfoniumtriflat und 95 teilen poly-[4-hydroxystyrol-co-4-tetrahydropyranyloxystyrol-co-vinylcyclohexanol-4] (molares verhältnis der comonomeren = 49:45:6) und 400 teilen ethyllaktat hergestellt.
comparative example 1 a photoresist solution was prepared from 5 parts of 2-methyl-4-hydroxy-5-isopropylphenyldimethylsulfonium triflate and 95 parts of poly 4-hydroxystyrene-co-4-tetrahydropyranyloxystyrene-co-vinyl-cyclohexan-4-ol! (molar ratio of the comonomers=49:45:6) and 400 parts of ethyl lactate.