Usted buscó: plasmaentladung (Alemán - Francés)

steuerung eines geschosses durch plasmaentladung
pilotage d'un projectile par decharge plasma

induzierte plasmaentladung gebrauchendes magnetaufzeichnungsverfahren und -gerÄt
procede et appareil d'enregistrement magnetique utilisant une decharge induite de plasma

gerÄt und methode zur plasmaentladung mit dynamischer regelung
dispositif de decharge de plasma et procede de reglage dynamique

vorrichtung und verfahren zum beschichten von substraten mittels plasmaentladung
dispositif et procede s'utilisant dans des traitements rapides au plasma

abscheiden von organischen und/oder anorganischen nanoschichten mittels plasmaentladung
procédé de déposition de nanocouches inorganiques et/ou organiques par decharge de plasma

verfahren und vorrichtung zum beschichten von substraten mittels einer plasmaentladung
procede et appareil d'enduction de substrats par decharge de plasma

vorrichtung und verfahren zur herstellung von wasserstoffgas durch mikrowellen-plasmaentladung
appareil et procede de production de gaz hydrogene par decharge de plasma a micro-onde

plasmaverfahren zur herstellung mittels einer plasmaentladung hergestellter schichten bei niedriger temperatur
procédé de dépôt par vapeur chimique avec du plasma pour former des revêtements déposés par vapeur chimique avec du plasma à basse température

das verfahren nach einem der ansprüche 8 bis 10, wobei die gasumgebung durch eine plasmaentladung aktiviertes cf 4 ist.
procédé conforme à l'une des revendications 8 à 10, dans lequel le milieu gazeux est du tétrafluorure de carbone, activé par décharge plasma.

ein induktionsplasmaerzeugungssytem nach anspruch 1, das weiter eine vorrichtung zum aufrechterhalten einer konstanten leistung an die plasmaentladung enthält.
système générateur de plasma à induction selon la revendication 1 comportant en outre un moyen destiné à maintenir la décharge de plasma à puissance constante.

behälter nach anspruch 9, worin das polypropylen mit einer flamme, einer koronaentladung oder einer plasmaentladung vorbehandelt wurde.
récipient suivant la revendication 9, dans lequel le polypropylène a été prétraité par l'un quelconque des moyens consistant en décharge par flamme, décharge corona et décharge par plasma.

haarreparaturflÜssigkeit enthaltend wasser dispergiert mit ultrafeinen teilchen aus metall der titangruppe durch unterwasser-plasmaentladung und verfahren und system fÜr iher herstellung
liquide de regeneration capillaire comprenant de l'eau dispersee avec des particules ultrafines d'un metal du groupe titane par une decharge de plasma sous eau et procede et systeme de production

verfahren nach anspruch 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die plasmaentladung zu beginn während einer vorgegebenen zeit mit reduzierter leistung betrieben wird.
procédé selon l'une des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que la décharge de plasma est effectuée à puissance réduite à l'origine pendant un temps prédéterminé.

verfahren nach anspruch 1, wobei die vakuumkammer in unmittelbarer nähe der plasmaentladung angeordnet ist, oder wobei die vakuumkammer in unmittelbarer nähe einer geerdeten fläche angeordnet ist.
procédé selon la revendication 1, dans lequel ladite chambre sous vide est à proximité étroite de ladite décharge de plasma, ou dans lequel ladite chambre sous vide est à proximité étroite d'une surface reliée à la masse.

in einem ersten schritt wird das halogensilan unter erzeugung einer plasmaentladung zu einem halogenierten polysilan umgesetzt, das nachfolgend in einem zweiten schritt unter erhitzen zu silicium zersetzt wird.
dans une première étape, le silane halogéné est transformé en un polysilane halogéné par génération d'une décharge de plasma. lors d'une deuxième étape, ce polysilane est ensuite décomposé en silicium par chauffage.

verfahren nach anspruch 1 und einem der ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet , daß der wertesatz für die plasmaentladung charakteristischer meßgrößen in abhängigkeit vom erosionszustand über die gebrauchsdauer der teiltargets vorgegeben wird.
procédé selon la revendication 1 et l'une des revendications 2 à 5, caractérisé en ce que la série de valeurs des grandeurs mesurées caractéristiques de la décharge de plasma est prescrite en fonction de l'état d'érosion pendant la durée d'utilisation de la cible partielle.

reaktor nach anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die quelle für die plasmaentladung wenigstens eines der mit einem ventil versehenen reaktionsteilnehmer-einlässe umgibt und eine variable impedanzeinrichtung umfaßt.
réacteur selon la revendication 11, dans lequel ladite source de décharge à plasma entoure au moins une desdits entrées de réactif à vanne et qui comprend des moyens pour faire varier l'impédance.

herstellungsverfahren nach anspruch 9, bei dem man in einer plasmaentladung erzeugte radikale oder atomares gas als quelle für die radikale oder für das atomare gas zum bestrahlen der schmiermittelschicht (5) verwendet.
un procédé de fabrication selon la revendication 9, dans lequel les radicaux ou les gaz atomiques générés dans une décharge de plasma sont utilisés comme une source desdits radicaux ou desdits gaz atomiques pour l'irradiation de ladite couche de lubrifiant (5).

verfahren nach anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der wertesatz für die plasmaentladung charakteristischer meßgrößen aus einem wertepaar von entladungs-spannung und einem optisch oder elektrisch gewonnenen, den plasmazustand kennzeichnendes signal gebildet wird.
procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la série de valeurs des grandeurs mesurées caractéristiques de la décharge de plasma est constituée d'une paire de valeurs de la puissance de décharge et d'un signal caractéristique de l'état du plasma obtenu optiquement ou électriquement.

ansteuerverfahren für eine flächenartige plasmaentladungs-anzeigevorrichtung nach anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine zielanzeige durch gleichzeitiges anlegen einer ersten spannung (va) an die entladungselektroden-abschnitte (iy) über die betreffenden elektroden (y) der zweiten elektrodengruppe (12) und einer zweiten spannung (v6) an die elektroden (x) der ersten elektrodengruppe (11) ausgeführt wird, um so eine spannung anzulegen, welche gleich oder höher ist als eine entladungs-startspannung über die elektroden der ersten elektrodengruppe (11) und den entladungselektroden-abschnitt (iy) der zweiten elektroden (12), die einen ausgewählten plasmaentladungs-abschnitt (p) bilden.
procédé de commande d'un dispositif plat d'affichage par décharge plasma selon la revendication 1, caractérisé en ce qu' un affichage cible est effectué en appliquant simultanément une première tension (va) aux parties d'électrodes de décharge (i y ) par le biais des électrodes correspondantes (y) du second groupe d'électrodes (12) et une seconde tension (v6) aux électrodes (x) du premier groupe d'électrodes (11) de façon à appliquer une tension qui soit égale ou supérieure à une tension de lancement de décharge au sein des électrodes du premier groupe d'électrodes (11) et de la partie d'électrode de décharge (i y ) des secondes électrodes (12) constituant une partie de décharge par plasma sélectionnée (p).