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Letón

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marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof

Letón

izzīmēšanas instrumenti, kas pieskaitāmi attēlu ģenerēšanas aparatūrai, kuru izmanto masku vai tīklu ražošanai no substrātiem ar fotorezista pārklājumu; to detaļas un piederumi

Última actualización: 2014-11-21
Frecuencia de uso: 2
Calidad:

Inglés

Marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof

Letón

izzīmēšanas instrumenti, kas pieskaitāmi pie attēlu ģenerēšanas aparatūras, kuru izmanto masku vai tīklu ražošanai no substrātiem ar fotorezista pārklājumu; to detaļas un piederumi

Última actualización: 2014-11-21
Frecuencia de uso: 1
Calidad:

Inglés

A product consisting of a quartz plate coated with chrome and photoresist with overall dimensions of 15 (L) × 15 (W) × 0,6 (D) cm (so-called ‘photomask blank’).

Letón

Izstrādājums, kas sastāv no kvarca plāksnes, kura pārklāta ar hromu un fotorezistu un kuras izmēri ir 15 cm (garums) × 15 cm (platums) × 0,6 cm (biezums) (t. s. “fotošablonu sagatave”).

Última actualización: 2014-11-21
Frecuencia de uso: 1
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Inglés

Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits [12]

Letón

polietilēna plēve ar biezumu 20 mikrometri vai vairāk, bet ne biezāka par 40 mikrometriem, fotorezistentu filmu izgatavošanai, kuras lieto pusvadītāju vai iespiedshēmu ražošanā [12]

Última actualización: 2014-11-21
Frecuencia de uso: 2
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Inglés

photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,

Letón

gaismas izturīgiem un atstarojošiem pārklājumiem fotolitogrāfijas procesos,

Última actualización: 2014-11-21
Frecuencia de uso: 2
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Inglés

photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes;

Letón

fotorezistīviem vai atstarojošiem pārklājumiem fotolitogrāfijas procesos;

Última actualización: 2014-11-21
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