De traductores profesionales, empresas, páginas web y repositorios de traducción de libre uso.
målet är att visa att euv-litografi är framtidens mest lämpade teknik för produktion av integrerade kretsar.
the goal is to demonstrate that euv lithography is the technology of choice for future production of integrated circuits.
syftet med flour-projektet är att forska om tillämpningen av så kallad 157 nanometer-litografi.
the objective of the fluor project is to carry out research on the application of so called 157 nanometre lithography.
syftet med extatic-projektet är att undersöka systemaspekterna av extrem ultraviolett (euv) litografi.
the objective of the extatic project is to study the system aspects of extreme ultraviolet (euv) lithography.
litografi används för en viss sorts produktion av halvledarkretsar genom vilken ytterst tunna elektroniska partiklar skapas i samband med att fotoresistent material exponeras för ljus.
lithography concerns that part of chip production in which ultrafine electronic elements are created through the exposure of photoresistant materials to light.
projektet avser konstruktion av en ny anläggning för tillverkning av kalciumfluoridkristaller föroptisk litografi som används för tillverkning av skivstepprar (wafer-steppers).
the projectconcerns the construction of a new plant for the production of calcium fluoride crystals for optic lithographyused to produce wafer steppers.
denna typ av litografi anses vara ett viktigt mellanled mellan den nuvarande 193 nanometer-teknologin som kommer att upphöra inom fyra till sex år och framtida euv-teknologi, som kommer efter 2010.
this kind of lithography is considered as an important intermediate technology between the current 193 nanometre technology, which will end in four to six years from now, and future euv technologies, starting after 2010.