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mikrowellenplasma-cvd-vorrichtung, die zum kontinuierlichen ausbilden eines großflächigen und länglichen funktionalen abscheidungsfilmes geeignet ist, mit: mindestens einer im wesentlichen geschlossenen filmerzeugungskammer (116, 216), die eine gekrümmte umfangswand aufweist, welche durch krümmen und vorstehenlassen einer substratbahn (101, 201) auf der bewegungsbahn in längsrichtung von einem abgabemechanismus (403, 503) zu einem aufnahmemechanismus (404, 504) über ein paar von rollen (102, 103; 202, 203) zum abgestützten krümmen der substratbahn (101, 201) gebildet ist, wobei das paar der rollen (102, 103; 202, 203) parallel zueinander angeordnet ist, wobei ein vorgegebener abstand zwischen den rollen in längsrichtung verbleibt; mindestens einer mikrowellenapplikatoreinrichtung (107, 108; 207, 208), die in der lage ist, mikrowellenenergie in die filmerzeugungskammer (116, 216) in einer richtung parallel zur mikrowellenfortpflanzungsrichtung abzustrahlen und ein mikrowellenplasma in der filmerzeugungskammer (116, 216) zu erzeugen; einrichtungen (114, 214) zum evakuieren des innenraumes der filmerzeugungskammer; einrichtungen (113, 218) zum einführen des filmerzeugungsrohmaterialgases in die filmerzeugungskammer; und einrichtungen (106a-e, 206a-e) zum erhitzen oder zum abkühlen der substratbahn, dadurch gekennzeichnet, daß die filmerzeugungskammer (116, 216) eine säulenförmige gestalt besitzt und die mikrowellenapplikatoreinrichtung (107, 108; 207, 208) mit mindestens einer seitenfläche der filmerzeugungskammer verbunden ist.
appareil de cvd par plasma produit par micro-ondes convenable pour la formation continue d'un film déposé fonctionnel de grande surface et de grande longueur, ledit appareil comprenant : au moins une chambre de formation de film pratiquement close (116, 216) ayant une paroi circonférentielle incurvée formée en incurvant et en projetant une bande servant de substrat (101, 201) sur le trajet de déplacement dans la direction longitudinale à partir d'un mécanisme de déroulement (403, 503) jusqu'à un mécanisme d'enroulement (404, 504) par une paire de rouleaux (102, 103 ; 202, 203) pour courber par appui ladite bande servant de substrat (101, 201), ces deux rouleaux (102, 103 ; 202, 203) étant disposés mutuellement en parallèle tout en laissant un intervalle prédéterminé entre eux dans la direction longitudinale ; au moins un moyen d'application de micro-ondes (107, 108 ; 207, 208) qui est capable d'introduire par rayonnement une énergie de micro-ondes dans ladite chambre de formation de film (116, 216) dans la direction parallèle à la direction de propagation des micro-ondes et d'engendrer un plasma produit par micro-ondes dans ladite chambre de formation de film (116, 216) ; un moyen (114, 214) pour mettre sous vide l'intérieur de la chambre de formation de film ; un moyen (113, 218) pour introduire une matière première gazeuse de formation de film dans ladite chambre de formation de film ; et un moyen (106a-e, 206a-e) pour chauffer ou refroidir ladite bande servant de substrat, caractérisé en ce que la chambre de formation de film (116, 216) a une forme de colonne et en ce que le moyen d'application de micro-ondes (107, 108 ; 207, 208) est connecté à au moins une face latérale de la chambre de formation de film.