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sheathe one's sword
rengainer son épée

and one sword’s all that i need,
venez, fils de jason, je n'attends plus que vous.

13. one sword, bearing the number 116489, made in 1984;
13. une épée, portant le numéro 116 489, fabriquée en 1984.

for polishing one is required not, and, at least, three tampons.
pour le polissage non un demander, mais, au moins, trois tampons.

one theory is that the custom arose from the need to keep one’s sword arm free in case of trouble.
l’une d’elle, par exemple, précise que la tradition date du temps où il fallait garder la main droite libre pour manier l’épée d’attaque …

but one 'sword' was growing in the heart of david and it was a mighty sword indeed.
mais une «épée» grandissait dans le cœur de david, c’était une épée puissante.

when standing up, the right foot moves first, to make it easier to draw one’s sword and recover from a sudden attack.
de plus, le but dans le kendō n’est pas de vaincre l’adversaire, mais de remporter une victoire sur soi-même.

an apparatus for polishing one or more planar substrates, such as magnetic disks, between rotating polishing plates is described
cette invention se rapporte à un appareil servant à polir un ou plusieurs substrats plans, tels que des disques magnétiques, entre des plaques de polissage rotatives

in order to carry out this test, a platelet of refractory material to be tested is prepared by polishing one of its faces.
pour réaliser ce test, l'on prépare une plaquette de matériau réfractaire à tester, en polissant l'une de ses faces.

by using the latest technology for concrete grinding and polishing one can achieve very good results while saving time, effort and money.
utilisant les dernières technologies pour le meulage et le polissage du béton pour obtenir de très bons résultats tout en économisant temps, effort et argent.

(ii) polishing one or more surfaces of the multi-component electrode following removal of metal ions there from
(ii) le polissage de la ou des surfaces de l'électrode multicomposant après le retrait des ions métalliques

the quantity of dry particulate solids delivered to a reconstitution apparatus can be an amount appropriate for polishing one work piece or a small number of work pieces, or the system can operate in larger batches or a continuous flow mode
la quantité de solides particulaires secs fournis à un dispositif de reconstitution peut correspondre à une quantité appropriée au polissage d'une seule pièce de travail ou d'un petit nombre de pièces de travail, ou le système peut fonctionner avec des lots plus grands, ou en mode continu

the quantity of dry particulate solids delivered to a reconstitution apparatus can be an amount appropriate for polishing one work piece or a small number of work pieces, or the system can operate in larger batches or a continuous flow mode.
la quantité de solides particulaires secs fournis à un dispositif de reconstitution peut correspondre à une quantité appropriée au polissage d'une seule pièce de travail ou d'un petit nombre de pièces de travail, ou le système peut fonctionner avec des lots plus grands, ou en mode continu.

on which hts films are provided so in relation to each other that the hts films come in close contact, applying a high pressure in an oxygen atmosphere and at an elevated temperature such that the hts films are annealed and bonded together and subsequently polishing one of the substrate layers to form a smooth insulator
sur lesquelles des couches minces hts sont disposées dans une relation telle, les unes par rapport aux autres, que lesdites couches minces hts viennent en contact étroit, à appliquer une haute pression dans une atmosphère d'oxygène et à température élevée, de manière que les couches minces hts soient recuites et liées ensemble, et ensuite à polir une des couches de substrat pour former un isolant lisse

the method as described in any one of the preceding claims wherein said method further comprises the steps of chamfering one or both of an outside diameter edge of said blank and an inside diameter edge of said blank, and polishing one or both of said outside diameter edge and said inside diameter edge of said blank.
procédé tel que décrit à l'une quelconque des revendications précédentes, ledit procédé comprenant en outre les étapes de chanfreinage du rebord de diamètre extérieur de ladite ébauche et/ou du rebord de diamètre intérieur de ladite ébauche, et le polissage du rebord de diamètre extérieur de ladite ébauche et/ou du rebord de diamètre intérieur de ladite ébauche.

an apparatus for polishing one or more planar substrates, such as magnetic disks, between rotating polishing plates is described. the apparatus is designed to optimize uniformity and flatness of the substrates by maintaining a substantially constant parallel and coaxial alignment between the rotating polishing plates.
cette invention se rapporte à un appareil servant à polir un ou plusieurs substrats plans, tels que des disques magnétiques, entre des plaques de polissage rotatives. cet appareil est conçu pour optimiser l'uniformité et la planéité des substrats, en maintenant un alignement parallèle et coaxial sensiblement constant entre les plaques de polissage rotatives.

furthermore, with the incompressible lithographic layers 10 of the prior art, there were problems of manufacture during the finish polishing. one problem, as shown in fig. 4, caused wavelets designated v at the surface of the lithographic layer.
en outre, avec les couches lithographiques incompressibles de l'art antérieur, il y avait des problèmes de fabrication de ces couches lors du polissage de finition qui, comme on le voit bien sur la figure 4, provoquait des vaguelettes repérées v en surface de la couche lithographique.

a mirror for wide angle scanning applications comprises: a silicon substrate comprising a flat, polished surface side and an etched, rough surface side; and a plurality of layers, including a layer of reflective medium, disposed on the flat, polished surface of the substrate section in such a manner to minimize flexural distortion of the flat surface. the mirror is made by a method comprising the steps of: preparing the silicon wafer by polishing one side to a predetermined flatness and etching the other side to a predetermined roughness; cutting the substrate section from the prepared silicon wafer to a predetermined shape and macroscopic size; and applying a plurality of layers on the flat, polished surface.
l'invention concerne un miroir macroscopique destiné à des applications de balayage à grand angle qui comprend : une section substrat de silicium de forme et de taille macroscopique prédéterminées découpée à partir d'une plaquette de silicium qui comporte un côté de surface poli et plat, et un côté de surface rugueux et gravé ; et une pluralité de couches, y compris une couche d'un milieu de réflexion disposée sur la surface polie et plate de la section substrat de façon que la distorsion de flexion de ladite surface plate soit réduite au minimum. ce miroir macroscopique est produit au moyen d'un procédé qui comprend les étapes consistant : à préparer la plaquette de silicium par polissage d'un côté à une planéité prédéterminée et par gravure de l'autre côté à une rugosité prédéterminée ; à découper la section substrat à partir de la plaquette de silicium préparée à une forme et une taille macroscopique prédéterminées ; et à appliquer la pluralité de couches sur la surface polie et plate.