Apprendre à traduire à partir d'exemples de traductions humaines.
Réalisées par des traducteurs professionnels, des entreprises, des pages web ou traductions disponibles gratuitement.
lithografische kunststeen bestaat meestal uit een in vormen geperst mengsel van cement en kalksteen.
la pietra litografica artificiale è nella maggior parte dei casi fatta di cemento e di carbonato di calcio, colati in forma e compressi.
nb: voor asferische optische elementen, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: per gli elementi ottici asferici appositamente progettati per apparecchiature di litografia, vedi 3b001.
nb: voor excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: per i "laser" ad eccimeri appositamente progettati per apparecchiature di litografia vedere 3b001.
van deze onderverdeling is uitgezonderd de onbewerkte kalksteen die als lithografische steen wordt verhandeld (post 25.32 b);
sono escluse da questa sottovoce e rientrano nella sottovoce 25.32 Β le pietre calcaree, dette « pietre litografiche », allo stato grezzo;
2. geprepareerde lithografische steen, ook indien met druktekens of met tekeningen, genoemd onder letter a, punten 5 en 9, van de toelichting op post 84.34 van de idrnomenclatuur.
2. le pietre litografiche preparate, anche con scritture e disegni di cui alle note esplicative della nccd, voce n. 84.34, lettera a, punti 5 e 9.
de afstoting van de starfabriek van alusuisse in het britse bridgenorth,waarvan de koper de lithografische activiteiten van die fabriek zou kunnen verwerven een koudwalserijvoor folie, en nam de concurrentieoverlapping op de markt van lithografische plaat weg, hief elke twijfelover de totstandkoming van een dominant duopolie op en herstelde aldus de concurrentievoorwaardenwelke van kracht waren vóór de concentratie.
in particolare, sembrava esistere un mercato distinto delle ruotemeccaniche (usate per stabilizzare l’orientamento del satellite).
op fysische elementen gebaseerde simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van lithografische, ets- of opdampingsprocédés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.
"software" di simulazione basato sulla fisica appositamente progettato per lo "sviluppo" di processi di litografia, di attacco o di deposizione per trasformare dei tracciati di maschere in specifici tracciati topografici nei materiali conduttori, dielettrici o semiconduttori.