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plasmaverstärktes oder -unterstütztes cvd-beschichten und
plasmaförstärkt eller plasmaassisterad kemisk förångning, och
最終更新： 2014-11-15
使用頻度： 1
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anmerkung 1: das cvd-beschichten schließt folgende verfahren ein: abscheidung mittels gerichtetem gasfluss ohne direkten pulverkontakt des substrats (out of pack), cvd-beschichten mit pulsierendem druck, thermische zersetzung mit geregelter keimbildung (cntd), plasmaverstärktes oder -unterstütztes cvd-beschichten.
anm. 1: cvd omfattar följande processer: beläggning med ett gasflöde out-of-pack-beläggning, pulserande cvd, styrd termisk kärnbildande nedbrytningsprocess (cntd), plasmaförstärkta eller plasmaassisterade cvd-processer.
最終更新： 2014-11-15
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