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film-ablagerungsverfahren.
a film deposition method.
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
nanoschicht-ablagerungsverfahren
nanolayer deposition process
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren fÜr nanostrukturmaterialien
deposition method for nanostructure materials
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren fÜr dÜnnen schichten.
thin film deposition process.
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
erdnussablagerungsgerät und ablagerungsverfahren zur konfektherstellung.
peanut applicator and process of making a confectionery product.
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren und ablagerungswerkzeuge für atomische schichten
atomic layer deposition methods and atomic layer deposition tools
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren eines polymers auf einer oberflÄche
method for depositing a polymer onto a surface
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren, ablagerungsvorrichtung, isolationsfilm und integrierte halbleiterschaltung
deposition method, deposition apparatus, insulating film and semiconductor integrated circuit
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
synergetische sp-sp2-sp3-kohlenstoffmaterialien und ablagerungsverfahren dafÜr
synergetic sp-sp2-sp3 carbon materials and deposition methods thereof
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
einschrittiges ablagerungsverfahren zur herstellung von trockener faser mit komplexem fluordotiertem profil
single step laydown method of making dry fiber with complex fluorine doped profile
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
ablagerungsverfahren für eine harte metallschicht und ablagerungsart für ein solches verfahren, insbesondere ein schmuckstück mit solch einer schicht.
method of depositing a hard coating of a metal, deposition target for such a method and piece of jewellery comprising such a coating.
最終更新: 2014-11-28
使用頻度: 2
品質:
verfahren zum herstellen einer halbleitereinrichtung nach anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß ein elektronenstrahl-ablagerungsverfahren als das vakuumablagerungsverfahren verwendet wird.
a method for manufacturing a semiconductor device according to claim 22, characterized in that an electron beam deposition method is used as the vacuum deposition method.
最終更新: 2014-12-05
使用頻度: 2
品質: