検索ワード: belichtungsprozess (ドイツ語 - 英語)

immersionsflÜssigkeit, belichtungsvorrichtung und belichtungsprozess
immersion liquid, exposure apparatus, and exposure process

der störende sauerstoff lässt sich über verschiedene wege aus dem belichtungsprozess entfernen.
there are a number of ways to remove the disruptive oxygen from the exposure process.

bis zur fertigstellung des chip-produktes wird der belichtungsprozess viele male durchlaufen.
until the chip product has been completed, the exposure process is gone through several times.

matritze zur fertigung einer mattscheibe mit mikrolinsen sowie deren herstellunsmethode mit einem mehrstufigem belichtungsprozess
focusing screen master comprising microlenses and manufacturing method thereof comprising multistage exposure process

der grosse vorteil dieses prinzips besteht darin, dass beim belichtungsprozess die unerwünschten negativen einflüsse des sauerstoffs ausgeschlossen werden.
the big advantage of this principle is the fact that it eliminates the undesirable negative impact of oxygen during exposure.

der grund dafür ist der sauerstoff, welcher sich im uv-belichtungsprozess negativ auf die polymerisation des fotopolymers auswirkt und dadurch eine schrumpfung der rasterpunkte bewirkt.
this is because of the presence of oxygen that has a negative effect on the polymerization of the photopolymer during the uv exposure process and thus causes the dots to shrink.

verfahren nach anspruch 20, wobei in dem belichtungsprozess die maske und das substrat sich in bezug auf das optische projektionssystem bewegen während des projizierens des bildes des musters auf der maske auf das substrat durch das optische projektionssystem.
the method according to claim 20, wherein in said exposure process, said mask and said substrate move with respect to said projection optical system, while projecting the image of the pattern on said mask onto said substrate through said projection optical system.

insbesondere befaßt sich die vorliegende erfindung mit der herstellung von vorlagen, retikels und masken oder mit der direktbelichtung im mikrometerbereich bei der halbleiterfertigung, der fertigung von integrierten schaltkreisen, der hybridfertigung und der fertigung von flachen bildschirmen sowie ähnlichen fertigungsverfahren, bei denen belichtungsprozesse eingesetzt werden.
the present invention especially deals with the production of models, reticles and masks, or with direct illumination in the micrometer range in the fields of semiconductor production, the production of integrated circuits, hybrid production and the production of flat screens as well as similar production methods in the case of which illumination processes are used.