検索ワード: naphthylenedisulfonyl (英語 - フランス語)

r' 1 is eg phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl, all optionally substituted
r' 1 est par exemple phénylènedisulfonyle, naphtylènedisulfonyle, diphénylènedisulfonyle, ou oxydiphénylènedisulfonyle, tous éventuellement substitués

r' 3 inter alia is c2-c12alkylenedisulfonyl, phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl
r' 3 représente inter alia alkylènedisulfonyle c2-c12, phénylènedisulfonyle, naphtylènedisulfonyle, diphénylènedisulfonyle ou oxydiphénylènedisulfonyle

compounds of fomulae (i), (ii) or (iii), wherein m is zero or 1; n is 1, 2 or 3; r1 inter alia is unsubstituted or substituted phenyl, or naphthyl, anthracyl, phenanthryl, a heteroaryl radical, or c2-c12alkenyl; r'1 inter alia is vinylene, phenylene, naphthylene, diphenylene or oxydiphenylene; r2 inter alia is cn, c1-c4haloakyl, c2-c6alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, or benzoyl; r3 inter alia is c1-c18alkylsulfonyl, phenyl-c1-c3alkylsulfonyl, camphorylsulfonyl, or phenylsulfonyl; r'3 inter alia is c2-c12alkylenedisulfonyl, phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl; r4 and r5 inter alia are hydrogen, halogen, c1-c8alkyl, c1-c6alkoxy, c1-c4haloalkyl, cn, no2, c2-c6alkanoyl, benzoyl, phenyl, -s-phenyl, or6, sr9, nr7r8, c2-c6 alkoxycarbonyl or phenoxycarbonyl; r6 inter alia is hydrogen, phenyl or c1-c12alkyl; r7 and r8 inter alia are hydrogen or c1-c12alkyl; r9 inter alia is c1-c12alkyl; r10, r11 and r12 inter alia are c1-c6alkyl or phenyl; upon irradiation react as acid generating compounds and thus are suitable in photoresist aplications.
l'invention concerne des composés des formules (i), (ii) ou (iii), dans lesquelles m représente 0 ou 1; n représente 1, 2 ou 3; r1 inter alia représente phényle non substitué ou substitué, ou naphtyle, anthracyle, phénanthryle, un radical hétéroaryle, ou alcényle c2-c12; r'1 représente inter alia vinylidène, phénylène, naphtylène, diphénylène ou oxydiphénylène; r2 représente inter alia cn, haloalkyle c1-c4, alcoxycarbonyle c2-c6, phénoxycarbonyle ou benzoyle; r3 représente inter alia alkylsulfonyle c1-c18, phényle-alkylsulfonyle c1-c3, camphorylsulfonyle, ou phénylsulfonyle; r'3 représente inter alia alkylènedisulfonyle c2-c12, phénylènedisulfonyle, naphtylènedisulfonyle, diphénylènedisulfonyle ou oxydiphénylènedisulfonyle; r4 et r5 représentent inter alia hydrogène, halogène, alkyle c1-c8, alcoxy c1-c6, haloalkyle c1-c4, cn, no2, alcanoyle c2-c6, benzoyle, phényle, -s-phényle, or6, sr9, nr7r8, alcoxycarbonyle c2-c6 ou phénoxycarbonyle; r6 représente inter alia hydrogène, phényle ou alkyle c1-c12; r7 et r8 représentent inter alia hydrogène ou alkyle c1-c12; r9 représente inter alia alkyle c1-c12; r10, r11 et r12 représentent inter alia alkyle c1-c6 ou phényle; lesquels composés réagissent, lors d'une irradiation, comme des composés générant de l'acide et sont par conséquent adaptés à des applications de photorésist.