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integrierte halbleiterschaltung mit isolationszone

영어

integrated circuit semiconductor device having improved isolation region

마지막 업데이트: 2014-11-28
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halbleiteranordnung mit einer isolationszone.

영어

semiconductor device provided with isolation region.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung einer isolationszone.

영어

method for forming an isolation region.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer isolationszone.

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method of producing a semiconductor device comprising an isolation region.

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integrierte schaltung mit einer isolationszone und mit einer substratelektrode.

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isolated integrated circuit comprising a substrate electrode.

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verfahren zur herstellung einer integrierten halbleiterschaltung mit einer isolationszone.

영어

method for manufacturing a semiconductor integrated circuit comprising an isolating region.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer isolationszone und einer wanne.

영어

method of manufacturing a semiconductor device comprising an isolation region and a well region.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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halbleiteranordnung mit einer isolationszone mit einem isolationsgraben und verfahren zur herstellung derselben.

영어

semiconductor device with a trench isolation region and method of manufacturing the same.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer tiefen isolationszone in einem halbleiter.

영어

a method of manufacturing a semiconductor device for forming a deep field region in a semiconductor substrate.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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isolationszone für halbleiteranordnungen aus iii-v-verbindungen und verfahren zu ihrer herstellung.

영어

isolation region in a group iii-v semiconductor device and method of making the same.

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung eines pn-Übergangs mit niedriger fehlerdichte und formierung einer isolationszone in einem halbleitermaterial

영어

method of low defect junction and isolation formation in semiconductor material

마지막 업데이트: 2014-11-28
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verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit zwischenverbindungen, die über einer halbleiterzone und über einer angrenzenden isolationszone angebracht sind.

영어

method of manufacturing a semiconductor device having interconnections located both above a semiconductor region and above an isolation region adjoining it.

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