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integrierte halbleiterschaltung mit isolationszone
integrated circuit semiconductor device having improved isolation region
마지막 업데이트: 2014-11-28
사용 빈도: 2
품질:
halbleiteranordnung mit einer isolationszone.
semiconductor device provided with isolation region.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer isolationszone.
method for forming an isolation region.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer isolationszone.
method of producing a semiconductor device comprising an isolation region.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
integrierte schaltung mit einer isolationszone und mit einer substratelektrode.
isolated integrated circuit comprising a substrate electrode.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer integrierten halbleiterschaltung mit einer isolationszone.
method for manufacturing a semiconductor integrated circuit comprising an isolating region.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer isolationszone und einer wanne.
method of manufacturing a semiconductor device comprising an isolation region and a well region.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
halbleiteranordnung mit einer isolationszone mit einem isolationsgraben und verfahren zur herstellung derselben.
semiconductor device with a trench isolation region and method of manufacturing the same.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit einer tiefen isolationszone in einem halbleiter.
a method of manufacturing a semiconductor device for forming a deep field region in a semiconductor substrate.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
isolationszone für halbleiteranordnungen aus iii-v-verbindungen und verfahren zu ihrer herstellung.
isolation region in a group iii-v semiconductor device and method of making the same.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung eines pn-Übergangs mit niedriger fehlerdichte und formierung einer isolationszone in einem halbleitermaterial
method of low defect junction and isolation formation in semiconductor material
마지막 업데이트: 2014-11-28
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품질:
verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung mit zwischenverbindungen, die über einer halbleiterzone und über einer angrenzenden isolationszone angebracht sind.
method of manufacturing a semiconductor device having interconnections located both above a semiconductor region and above an isolation region adjoining it.
마지막 업데이트: 2014-11-28
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