검색어: informationsäufzeichnungsfläche (독일어 - 프랑스어)

mehrere brennpunkte aufweisende objektivlinse (2) zum fokussieren von licht auf eine fläche eines substrats, wobei die mehrere brennpunkte aufweisende objektivlinse (2) mindestens eine linse und eine beugungseinrichtung aufweist, wobei die beugungseinrichtung (4) der mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse (2) licht in mehrere ordnungen beugt, wobei jede der mehreren ordnungen des gebeugten lichts an einer anderen axialen position fokussiert wird und wobei das axiale koma der mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse (2) durch neigen der ganzen mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse (2) einschließlich der beugungseinrichtung (4, 5) bezüglich des substrats korrigiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrere brennpunkte aufweisende objektivlinse so konfiguriert ist, daß das von der beugungseinrichtung (4, 5) gebeugte licht der ordnung 0 auf eine informationsaufzeichnungsfläche eines ersten substrats fokussiert wird und daß das von der beugungseinrichtung (4, 5) gebeugte licht der ordnung +1 auf eine informationsaufzeichnungsfläche eines zweiten substrats fokussiert wird, dessen dicke sich von derjenigen des ersten substrats unterscheidet, wobei die neigungswinkel der mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse bezüglich des substrats im wesentlichen gleich sind und ein restkoma zc die bedingung zc = |l 1 (j 2 + d 2 ) / (j 1 + d 1 ) - l 2 | < 20 erfüllt, wobei gilt j 1 : koma außerhalb der achse je winkeleinheit bezüglich des ersten substrats ( mλ ) j 2 : koma außerhalb der achse je winkeleinheit bezüglich des zweiten substrats ( mλ ) d 1 : koma je winkeleinheit, das erzeugt wird, wenn das erste substrat geneigt ist ( mλ ) d 2 : koma je winkeleinheit, das erzeugt wird, wenn das zweite substrat geneigt ist (mλ) l 1 : axiales koma der mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse, das erzeugt wird, wenn die objektivlinse bezüglich des ersten substrats geneigt ist (mλ) l 2 : axiales koma der mehrere brennpunkte aufweisenden objektivlinse, das erzeugt wird, wenn die objektivlinse bezüglich des zweiten substrats geneigt ist (mλ).
lentille d'objectif à foyers multiples (2) pour focaliser la lumière sur une surface d'un substrat, ladite lentille d'objectif à foyers multiples (2) comprenant au moins une lentille et un moyen de diffraction, dans lequel ledit moyen de diffraction (4) de ladite lentille d'objectif à foyers multiples (2) diffracte la lumière en ordres multiples, chacun des ordres multiples de lumière diffractée étant focalisée à une position axiale différente, et le coma axial de ladite lentille d'objectif à foyers multiples (2) est corrigée par inclinaison de ladite lentille d'objectif à foyers multiples (2) dans son intégralité incluant ledit moyen de diffraction (4, 5) relatif audit substrat, caractérisé en ce que ladite lentille d'objectif à foyers multiples est configurée pour focaliser la lumière diffractée du 0ème ordre diffractée par ledit moyen de diffraction (4, 5) sur une surface d'enregistrement d'information d'un premier substrat et pour focaliser la lumière diffractée du +1er ordre diffracté par ledit moyen de diffraction (4, 5) sur une surface d'enregistrement d'information d'un second substrat différent dudit premier substrat en épaisseur, les angles d'inclinaison de ladite lentille d'objectif à foyers multiples par rapport audit substrat étant essentiellement les mêmes et un coma résiduel zc satisfait la condition , zc = |l 1 (j 2 +d 2 )/(j 1 +d 1 )-l 2 |<20 où j 1 : coma décentré de l'axe par angle unitaire par rapport au premier substrat (mλ) j 2 : coma décentré de l'axe par angle unitaire par rapport au second substrat (mλ) d 1 : coma par angle unitaire généré lorsque le premier substrat est incliné (mλ) d 2 : coma par angle unitaire généré lorsque le second substrat est incliné (mλ) l 1 : coma axial de la lentille d'objectif à foyers multiples généré lorsque la lentille d'objectif est inclinée par rapport au premier substrat (mλ) l 2 : coma axial de lentille d'objectif à foyers multiples généré lorsque la lentille d'objectif est inclinée par rapport au second substrat (mλ).