검색어: 0mm (영어 - 프랑스어)

it is possible to use this system with 0mm mounting space.
il est possible d’utiliser ce système pratiquement sans espace de montage.

getting a gap of 0mm in the achieved position (level end)
d’obtenir un écart de 0 mm en position atteinte (fin de niveau).

the method according to claim 15 wherein the edta is at a concentration of between 0mm and 0.5mm.
procédé selon la revendication 15 où l'edta est à une concentration entre 0 mm et 0,5 mm.

the distance between the lv harness and the hv harness shall be 100 mm +100/-0mm.
la distance séparant le faisceau basse tension du faisceau haute tension doit être de 100 + 100/-0 mm.

an ink container as defined in claim 19 in which the front end of the projection is at a distance from the front face of the body portion of the cylinder in the range not smaller than 0mm and not larger than 35mm.
réservoir d'encre selon la revendication 19, dans lequel l'extrémité avant de la projection se situe à une distance de la face avant de la partie formant corps du cylindre dans une plage qui n'est pas inférieure à 0 mm et qui ne dépasse pas 35 mm.

an intermediate position of the prescribed interval between the first and the second coils is controlled to be at a surface of the silicon melt or below so that a distance between the intermediate position and the surface of the silicon melt is 0mm or more but not more than 10,000mm
une position intermédiaire de l'intervalle défini entre la première et la seconde bobine est commandée pour se trouver à la surface du silicium fondu, ou en dessous, de telle sorte qu'une distance séparant la position intermédiaire et la surface du silicium fondu est supérieure ou égale à 0 mm, mais inférieure à 10 000 mm

a quartz crucible retaining silicon melt is rotated at a prescribed rotating speed, and a silicon single crystal bar pulled from the quartz crucible is rotated at a prescribed rotating speed. a first coil and a second coil having the rotating center of the crucible at the center are arranged in a vertical direction at a prescribed interval, and currents of the same direction are permitted to flow in the first and the second coils to generate a magnetic field. the first coil is arranged outside a chamber, and the second coil is arranged inside the chamber. an intermediate position of the prescribed interval between the first and the second coils is controlled to be at a surface of the silicon melt or below so that a distance between the intermediate position and the surface of the silicon melt is 0mm or more but not more than 10,000mm.
la présente invention concerne un appareil servant à tirer un monocristal de silicium et le procédé correspondant. un creuset en quartz maintenant le silicium fondu tourne à une vitesse de rotation définie, et une barre de monocristal de silicium tirée du creuset en quartz tourne à une vitesse de rotation définie. une première et une seconde bobine, dont le centre de rotation du creuset se trouve au centre, sont agencées dans une direction verticale à un intervalle défini, et les courants de direction similaire peuvent s’écouler dans la première et la seconde bobine afin de générer un champ magnétique. la première bobine est disposée à l’extérieure d’une chambre et la seconde bobine est disposée à l’intérieure de la chambre. une position intermédiaire de l’intervalle défini entre la première et la seconde bobine est commandée pour se trouver à la surface du silicium fondu, ou en dessous, de telle sorte qu’une distance séparant la position intermédiaire et la surface du silicium fondu est supérieure ou égale à 0 mm, mais inférieure à 10 000 mm.