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photoresistant component
composé photorésistant

photoresistant compositions.
compositions de photoréserve.

for avoiding light - photoresistant packages, dark bottles for oils
pour éviter la lumière – emballages photorésistants, bouteilles sombres pour les huiles

a layer of photoresistant material 62 is deposited on a quartz substrate 60 .
la phase résultante dans le champ de l'hologramme est alors numérisée en deux seules valeurs : 0 et π.

which converts the ultraviolet radiation into visible radiation directed to the photoresistant cell.
de rayonnement ultraviolet en rayonnement visible destiné à être dirigé sur la cellule photorésistante.

method of etching a wafer layer using multiple layers of the same photoresistant material and structure formed thereby
procede d'attaque de couche de tranche au moyen des couches multiples du meme materiau photoresistant et structure ainsi formee

techniques for etching a wafer layer using multiple layers of the same photoresistant material and structures formed using such techniques are provided
la présente invention concerne des techniques d'attaque de couche de tranche au moyen des couches multiples du même matériau photorésistant, et concerne également les structures formées en utilisant ces techniques

techniques for etching a wafer layer using multiple layers of the same photoresistant material and structures formed using such techniques are provided.
la présente invention concerne des techniques d'attaque de couche de tranche au moyen des couches multiples du même matériau photorésistant, et concerne également les structures formées en utilisant ces techniques.

which cumulates during one time unit the illumination received by said optical sensor the optical sensor is comprised of a photoresistant cell of which the resistance varies with the illumination received, said sensor being protected by at least one convergion means
destiné à cumuler pendant une unité de temps l'éclairement recueilli par ledit capteur optique, ledit capteur optique comprenant une cellule photorésistante dont la résistance varie avec l'éclairement recueilli, ledit capteur étant protégé par au moins un moyen de conversion

moreover, it is clear that the size of each of the quadrants must be approximately half that of the course scanned by the reflected beam, which means that photoresistant cells must be used in the manufacture of each of the quadrants.
par ailleurs, il est clair que les dimensions de chacun des quadrants doivent être sensiblement égale à la moitié du chemin balayé par le faisceau réfléchi, ce qui entraíne obligatoirement l'emploi de cellules photorésistives pour la réalisation de chacun des quadrants.

the luminous source must consequently have sufficient intensity to make the flux of the reflected beam compatible with a correct response of the two photoresistant quadrants, even when only a small part of the quadrant is illuminated, which occurs when the moving means is in an end position.
la source lumineuse doit en conséquence présenter une puissance suffisante pour que le flux du faisceau réfléchi soit compatible avec une réponse correcte des deux quadrants photorésistifs, même lorsque seule une faible partie du quadrant est éclairé, comme cela se produit lorsque le moyen mobile occupe une position extrême.

in a second step, using the traditional means of photolithography and well known in the microelectronic industry, the sheet 3 is applied on a photoresistant mask, bearing openings showing a resistance pattern similar to those described in the patents mentioned above.
dans une deuxième étape en utilisant les moyens classiques de photolithographie et bien connus par l'industrie de la micro-électronique, on applique sur la feuille 3 un masque de photorésist comportant des ouvertures dessinant un motif de résistance similaire à ceux décrits dans les brevets cités plus haut.

the sheet thereby provided with the oxide layers 22 is subjected to a conventional photolithographic operation involving attacking the oxide with fluorohydric acid buffered with ammonium fluoride in a ratio of 1:7 and at ambient temperature across a photoresistant mask so as only to retain the annular zones 23 adapted to subsequently form the seals 9a and 16a of the valves.
la plaquette ainsi pourvue des couches d'oxyde 22 est soumise à une opération de photolithographie classique par laquelle on procède à une attaque de l'oxyde à l'acide fluorhydrique tamponné au fluorure d'ammonium dans une proportion de 1:7 et à température ambiante, à travers un masque de photoresist, pour ne conserver que des zones annulaires 23 destinées à former ultérieurement les garnitures 9a et 16a des clapets.

chemical solvating, degreasing, stripping and cleaning agents. the agents are cleaning and solvating mixtures of dichloroethylene and alkoxy-substituted perfluoro compounds that contain six carbon atoms, with optionally highly fluorinated materials to retard flammability and/or other enhancement agents that improve and enhance the properties of the composition to accomplish its desired cleaning or solvating task. these other agents are one or more of the following materials: alcohols, esters, ethers, cyclic ethers, ketones, alkanes, aromatics, amines, siloxanes terpenes, dibasic esters, glycol ethers, pyrollidones, or low- or non-ozone depleting halogenated hydrocarbons. these mixtures are useful in a variety of solvating, vapor degreasing, photoresistant stripping, adhesive removal, aerosol, cold cleaning, and solvent cleaning applications including defluxing, dry-cleaning, degreasing, particle removal, metal and textile cleaning.
l'invention concerne des agents chimiques de solvatation, de dégraissage, de décapage et de nettoyage qui sont des mélanges de nettoyage et de solvatation de composés de dichloroéthylène et de perfluoro à substitution alcoxy contenant 6 atomes de carbone, présentant éventuellement des substances fortement fluorées aux propriétés ignifuges et/ou d'autres agents amplificateurs améliorant les propriétés de la composition afin d'assurer le nettoyage et la solvatation souhaités. ces autres agents sont sélectionnés parmi un ou plusieurs des éléments suivants : alcools, esters, éthers, éthers cycliques, cétones, alcanes, aromates, amines, siloxanes terpènes, esters dibasiques, éthers de glycol, pyrollidones, ou hydrocarbures halogénés de non appauvrissement de la couche d'ozone ou de faible appauvrissement de la couche d'ozone. ces mélanges sont utilisés dans une grande variétés d'applications de solvatation, de dégraissage à la vapeur, de décapage de la résine photosensible, d'élimination de l'adhésif, d'aérosol, de nettoyage à froid et de nettoyage au solvant comprenant le défluxage, le nettoyage à sec, le dégraissage, l'élimination de particules, le nettoyage de métal et de textile.