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entwickler für photoresistschichten.
developer for photoresist layers.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
verfahren zum entschichten von lichtgehärteten photoresistschichten.
stripping process for lightly hardened photoresist layers.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
verfahren und vorrichtung zur trocknung von photoresistschichten
method and device for drying photoresist coatings
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 3
Kwaliteit:
für die herstellung von photoresistschichten geeignetes schichtübertragungsmaterial.
photopolymerisable transfer material suitable for the production of photoresist layers.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
sie sind insbesondere geeignet für die herstellung von photoresistschichten und flachdruckplatten.
they are suitable in particular for producing photoresist layers and lithographic printing plates.
Laatste Update: 2014-12-03
Gebruiksfrequentie: 4
Kwaliteit:
verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternären ammomiumverbindungen.
process for the development and stripping of photoresist layers with quaternary ammonium compounds.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien.
photopolymerisable registration materials, photoresist layers, and lithographic-printing plates made therefrom.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 6
Kwaliteit:
diese photopolymerisierbaren aufzeichungsmaterialien eignen sich insbesondere zur herstellung von photoresistschichten und flachdruckplatten.
said photopolymerisable registration materials are especially suitable for making photoresist layers and lithographic printing plates.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien sowie neue chinazolon-4-verbindungen.
photopolymerisable recording materials as well as photoresist layers and planographic printing plates on a basis of these recording materials as well as quinazolone-4 compounds.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 2
Kwaliteit:
entschichtungsmittel und verfahren zum entschichten einer photoresistschicht.
stripping compositions and method of stripping resists.
Laatste Update: 2014-11-28
Gebruiksfrequentie: 4
Kwaliteit: