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to sputter
bredouiller

then, without any warning, the engine started to sputter and cough.
puis, sans avertissement, le moteur s’est mis à avoir des ratés.

once the corresponding engine starts to sputter, the selector is set to xfeed.
dès que le moteur correspondant commence à manquer, le sélecteur est placé sur xfeed , et le moteur doit de nouveau fonctionner normalement.

an rf magnetron discharge used to sputter pbte in ar is analyzed using emission spectroscopy.
une décharge de magnétron rf utilisée pour la vaporisation de pbte dans ar est analysée par spectroscopie d'émission.

the process of claim 1 wherein rf magnetron sputtering is used to sputter said oxide film.
le procédé de la revendication 1, dans lequel une pulvérisation cathodique à magnétron hf est utilisée pour déposer ladite couche d'oxyde.

the coil is preheated in the chamber prior to sputter depositing material onto a substrate and workpiece
on préchauffe la bobine dans la chambre de traitement avant de déposer un matériau par pulvérisation sur un substrat et sur une pièce à traiter

directing a beam of primary ions toward the sample to sputter secondary ions and neutral particles from the sample
à diriger un faisceau d'ions primaires vers l'échantillon pour pulvériser des ions secondaires et des particules neutres à partir de l'échantillon

a plasma chamber in a semiconductor fabrication system uses a two step process to sputter deposit material onto a substrate
une chambre à plasma utilisée dans un système de fabrication de semi-conducteurs pour effectuer par pulvérisation, en deux étapes, un dépôt de matière sur un substrat

glow discharge is caused between the anode electrode and the cathode electrode to form a plasma atmosphere to sputter each target
une décharge luminescente est provoquée entre l'électrode d'anode et l'électrode de cathode pour former une atmosphère de plasma pour pulvériser chaque cible

then, based upon the most aggressive aspect ratio between metal lines, the deposition rate to sputter rate ratio is calculated
ensuite, d'après le facteur de forme le moins agressif entre les lignes de métallisation, on calcule le taux de dépôt pour le coefficient de taux de pulvérisation cathodique

the sputtering targets can be utilized to sputter deposit a thin film; and such thin film can be utilized as a copper barrier layer
les cibles de pulvérisation peuvent servir à déposer un film mince, lequel film peut faire office de couche d'arrêt à la diffusion du cuivre

the sputtering targets can be utilized to sputter deposit a thin film; and such thin film can be utilized as a copper barrier layer.
les cibles de pulvérisation peuvent servir à déposer un film mince, lequel film peut faire office de couche d'arrêt à la diffusion du cuivre.

in another embodiment, rf energy applied to a coil positioned to sputter material onto a workpiece, is modulated to control the biasing of the coil
dans un autre mode de réalisation, on module l'énergie rf appliquée à une bobine placée de manière à pulvériser du matériau sur une pièce, dans le but de commander la polarisation de la bobine

the plasma has a sputter yield sufficient to sputter a metal target and a uv component of its emitted spectrum sufficient to induce diffusion of the sputtered metal into the chalcogenide layer
ce plasma peut être pulvérisé de façon suffisamment efficace sur une cible métallique et une composante ultraviolette de son spectre d'émission suffit à provoquer la diffusion du métal pulvérisé dans la couche de chalcogénure

a magnetron arranged to sputter a target, the magnetron in communication with the cooled aggregation chamber such that sputtered atoms of the target are received within the cooled aggregation chamber
d'un magnétron agencé pour pulvériser une cible, le magnétron étant en communication avec la chambre d'agrégation refroidie de telle sorte que des atomes pulvérisés de la cible soient reçus à l'intérieur de la chambre d'agrégation refroidie

i remind the minister of finance who recently said the economy is clicking on all cylinders that the economy continues to sputter for many canadians and that we want to see the economy firing on all cylinders.
je rappelle au ministre des finances, qui a déclaré récemment que l'économie canadienne tournait à plein régime, que ce n'est pas le cas pour de nombreux canadiens, et nous voulons que cela change.

an electrical power is applied to a high density sputtering target facing the substrate to form a plasma in the chamber while a rotating magnetic field of at least about 300 gauss is applied about the target to sputter the target
un courant électrique est appliqué à une cible de pulvérisation haute densité située en regard du substrat, pour former un plasma dans la chambre tandis qu'un champ magnétique rotatif d'environ 300 gauss est appliqué autour de la cible pour la pulvériser

a magnetron sputtering device is used to sputter a zno target as the material of the thin film to form a flow of the material (a material flow) from a cathode toward an anode in plasma
un dispositif de pulvérisation magnétron est utilisé pour pulvériser une cible de zno, servant de matériau de la couche mince, pour former un flux de matériau d'une cathode vers une anode dans un plasma

an oxygen gas is introduced into a vacuum tank, in which a film formation object is disposed, to sputter a pure copper target and thus to form a barrier film composed mainly of copper and containing oxygen on a surface of the film formation object
dans la présente invention, un gaz à base d'oxygène est introduit dans un réservoir à vide dans lequel un objet filmogène est déposé, pour soumettre une cible de cuivre pur à une pulvérisation cathodique et former ainsi un film barrière composé principalement de cuivre et contenant de l'oxygène au niveau d'une surface de l'objet filmogène

and a film formation step of applying an electric power to a target in the treatment chamber while introducing a first reactive gas and a second reactive gas having higher reactivity than that of the first reactive gas into the treatment chamber to sputter the target, thereby forming a film containing the target material on the substrate
et une étape de formation de film consistant à appliquer une puissance électrique à une cible dans la chambre de traitement, tout en introduisant un premier gaz réactif et un second gaz réactif présentant une réactivité supérieure à celle du premier gaz réactif dans la chambre de traitement pour pulvériser par pulvérisation cathodique la cible, formant ainsi un film contenant le matériau cible sur le substrat