Você procurou por: electron beam cured coating (Inglês - Letão)

electron beam;
elektronu kūli;

electron beam; or
elektronu staru kūli; vai

electron-beam recorders
elektronstaru ierakstītāji

b. electron beam; or
b. elektronu staru kūli; vai

electron beam physical vapour deposition
fizikāli termiskā pārklāšana elektronu kūlī

electron beam pvd uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
fizikāli termiskā tvaiku pārklāšanai elektronu kūlī materiālu, no kura veido pārklājumu, uzkarsē un iztvaicē ar elektronu kūli;

physical vapour deposition (pvd): electron-beam (eb-pvd)
fizikālā tvaiku kondensācijas pārklāšana (pvd): elektronu staru kūlis (eb-pvd)

using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
izmanto novirzītu fokusētu elektronu staru kūli, jonu staru kūli vai "lāzera" staru kūli; un

this includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
pie jonu implantācijas pieder arī procesi, kuros jonu implantāciju veic reizē ar elektronu staru kūļa vai uzputināšanas pārklāšanu.

the use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Šās tehnikas modifikācijas ir jonu vai elektronu staru kūļa vai plazmas izmantošana pārklāšanas procesa aktivizēšanai.

computer controlled or "numerically controlled" electron beam welding machines, and specially designed components therefor.
datorkontrolētas vai "ciparu kontroles" elektronu staru metināšanas iekārtas, un tām īpaši paredzētas sastāvdaļas.

machine tools for working any material by removal of material, operated by electrochemical, electron beam, ionic beam or plasma arc processes
darbagaldi dažādu materiālu apstrādei, noņemot materiālu ar elektroķīmisko, elektronu starojuma, jonu starojuma vai plazmas loka procesu palīdzību

electron beam accelerator systems, with an operating voltage not exceeding 1,5 mv and a beam current not exceeding 70 ma
elektronstaru kŪļa paātrinātāja sistēmas ar darba spriegumu ne vairāk kā 1,5 mv, un kŪļa strāvu ne vairāk kā 70 ma

several new flue gas desulphurisation processes, such as electron beam dry scrubbing (ebds) and mark 13a, have not yet passed the pilot stage.
vairāki jauni dūmvadu gāzes desulfurizācijas procesi, tādi kā elektronu kūļa sausā tīrīšana (ebds) un mark 13a vēl nav izgājuši eksperimentālo stadiju.

high power strip or scanning electron beam guns with a delivered power of more than 2,5 kw/cm for use in uranium vaporisation systems;
lieljaudas svītru vai skanējošie elektronu staru lielgabali, kuru jauda lielāka par 2,5 kw/cm, izmantošanai urāna iztvaicēšanas sistēmās;

electron beam physical vapour deposition (eb-pvd) production equipment incorporating power systems rated for over80 kw and having any of the following:
elektronu kūļa fizisko tvaiku pārklājumu (eb-pvd) iekārtas, kas satur energosistēmas ar jaudu lielāku par 80 kw, un kam ir jebkas no še uzskaitītā:

all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better;
visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietošanai elektronstaru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām, jutība ir 0,01 coulomb/mm vai augstāka;

b. all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 μcoulomb/mm2 or better;
b. visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam elektronu staru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām, ar jutību ir 0,01 mikrokuloni/mm2 vai lielāku;

machine-tools for working any material by removal of material, operated by electro-chemical, electron-beam, ionic-beam or plasma arc processes
darbagaldi dažādu materiālu apstrādei, noņemot materiālu ar elektroķīmisko, elektronu starojuma, jonu starojuma vai plazmas loka procesu palīdzību

hand-held blow pipes for soldering, brazing or welding (excluding electric, laser, other light or photon beam, ultrasonic, electron beam, magnetic pulse or plasma arc)
rokas lodlampas mīkstlodēšanai, cietlodēšanai vai metināšanai (izņemot elektriskās, lāzera, pārējo gaismas avotu vai fotonu starojuma, ultraskaņas, magnētisko impulsu vai plazmas loka)