Вы искали: photolithography (Английский - Арабский)

photolithography
الليثوغرافيا الضوئية

photolithography and semiconductors
الطباعة الحجرية التصويرية وأشباه الموصلات

implant deposition etch photolithography
الغرز الترسيب الحفر الطباعة التصويرية

the entire process is called photolithography or photo engineering.
وتسمى العملية برمتها ضوئية أو هندسة الصورة.

(a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes,
(أ) المواد الحساسة للضوء أو الطلاءات المانعة للانعكاس المستخدمة في عمليات النقش الضوئي على الأسطح الصلبة؛

(a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes; and
(أ) المواد المقاومة للضوء أو المواد المغلفة المانعة للانعكاس المستخدمة في عمليات الطباعة الضوئية على الصفائح؛

use of existing fire fighting foam stock photographic industry photolithography and semiconductor hydraulic fluids metal plating
استخدام أرصدة رغاوي مكافحة الحرائق القائمة صناعة التصوير الضوئي الطباعة التصويرية وأشباه الموصلات السوائل الهيدروليكية طلاء المعادن

photolithography is also integral to the miniaturization of semiconductors. (rpa & bre, 2004).
كما أن الطباعة التصويرية جزء لا يتجزأ من نمنمة أشباه الموصلات (rpa & bre، 2004).

photolithography reportedly represents 150 of the total of 500 steps mentioned above. photolithography is also integral to the miniaturization of semiconductors.
ويقال إن الطباعة التصويرية تمثل 150 خطوة من مجموع 250 خطوة المذكورة آنفا.

new photolithography technologies use less photo resist per wafer than older technologies, and the new photoresist formulations contain much lower concentrations of pfos.
وتستخدم تكنولوجيات الليثوغرافيا الضوئية الجديدة كمية أقل من المادة الحساسة للضوء لكل قرص رقيق من شبه موصِّل مقارنةً بالتكنولوجيات القديمة، كما أن التركيبات الجديدة من المواد الحساسة للضوء تحتوي على تركيزات أقل بكثير من سلفونات البيرفلوروكتان.

deposition etch photolithography photolithography is the most important step towards the successful implementation of each of the other steps and, indeed, the overall process.
والطباعة الحجرية التصويرية هي أهم خطوة من أجل التنفيذ الناجح لكل خطوة من الخطوات الأخرى، بل والعملية بأكملها حقيقة.

it has been estimated that a similarly small proportion of releases in the united states and japan is attributable to the photolithography uses, based on recent past use patterns.
وقدر أيضاً أن نسبة صغيرة مماثلة من عمليات التسرب في الولايات المتحدة واليابان ترجع إلى الاستخدامات الليثوغرافية الضوئية، على أساس أنماط الاستخدام في الماضي القريب.

if those hurdles can eventually be overcome, however, there will be substantial costs associated with the transition to the use of alternative substances in the photolithography process.
ومع ذلك، إذا تم التغلب على هذه العقبات في النهاية، ستكون هناك تكاليف باهظة مرتبطة بالانتقال إلى استخدام مواد بديلة في العملية الليثوغرافية الضوئية.

it should also be noted that during the chemical formulation of photolithography products, worker exposure potential is very low because the process occurs under highly automated, largely closed system conditions.
ينبغي ملاحظة أنه خلال التشكيل الكيميائي للمنتجات الليثوغرافية الضوئية، يكون احتمال تعرض العمال منخفضا جداً بسبب أن العملية تحدث تحت أوضاع نظام ممكنن جداً ومغلق بشكل كبير.

in 2002 for the whole of europe, an estimated 43 kilogram of pfos were released in the effluent from photolithography uses, on the order of only 0.45 percent of all pfos releases at that time in europe.
وفي عام 2002 لأوروبا بكاملها، تم تسرب حوالي 43 كيلوغرام من السلفونات المشبعة بالفلور أوكتين في ملوثات من الاستخدامات الليثوغرافية الضوئية، مما يمثل 45,.

according to the semi-conductor industry, the operation of pfos based photo acid generators (pags) is critical to the semiconductor industry in the photolithography process.
طبقاً لصناعة شبه الموصل، إن عملية مولدات الحامض الضوئي pags)) القائمة على السلفونات المشبعة بالفلور أوكتين حرجة لصناعة شبه الموصل في العملية الليثوغرافية الضوئية.

there's a chip there, a conventional one. then there's one made by a photolithography by a company in madison called nimblegen, which is way ahead of affymetrix.
توجد شريحة هناك، شريحة تقليدية. ثم توجد واحدة تصنع بواسطة الليثوغرافيا الضوئية من قبل شركة في ماديسن تدعى نمبلجين، والتي تسبق أفيمتركس بكثير.

based on the risk management evaluation critical uses would include the following: photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes; photo mask rendering process; photo imaging; hydraulic fluids in aviation; and, certain medical devices.
واستنادا إلى تقييم إدارة المخاطر تشمل الاستخدامات الحرجة ما يلي: المواد الواقية الضوئية أو الطلاءات المضادة للانعكاس الخاصة بعمليات الطباعة الحجرية التصويرية؛ عملية طلاء الأقنعة الضوئية؛ التصوير الفوتوغرافي؛ السوائل الهيدروليكية في الطيران؛ وأجهزه طبية معينة.