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verfahren nach einem oder mehreren der vorangehenden ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß die anodisierspannung geringer ist als die spannung, bei der die fertiggestellte mim-anordnung im betrieb gesteuert werden soll.
procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la tension d'anodisation est inférieure à la tension à laquelle le dispositif mim fini est destiné à être activé en service.
Son Güncelleme: 2014-12-03
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verfahren nach anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der erste wert u 1 der anodisierspannung zur bildung von zylinder- oder kegelstumpfförmigen, langen poren zwischen 12 und 80 v liegt, und der zweite wert u 2 der anodisierspannung zur bildung wenigstens zweier porenverzweigungen am gegen die aluminiumschicht gerichteten ende jeder pore zwischen 10 und 20 v beträgt. verfahren nach anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass für die beschichtung der formkörperoberfläche (23) eines der elemente ni, al, pd, pt, w, fe, ta, rh, cd, cu, au, ag, in, co, sn, si, ge, se, te, oder eine chemische verbindung enthaltend wenigstens eines dieser elemente, oder eine legierung vorstehend aufgeführter metalle verwendet wird.
procédé selon la revendication 10, caractérisé par le fait que la première valeur u 1 de la tension d'anodisation pour former de longs pores en forme de cylindre ou de tronc de cône, se situe entre 12 et 80 v, et que la seconde valeur u 2 de la tension d'anodisation pour former au moins deux embranchements de pore à l'extrémité de chaque pore orientée vers la couche d'aluminium vaut entre 10 et 20 v. procédé selon la revendication 10 ou 11, caractérisé par le fait que pour le revêtement de la surface (23) du corps de forme on emploie l'un des éléments ni, al, pd, pt, w, fe, ta, rh, cd, cu, au, ag, in, co, sn, si, ge, se, te, ou un composé chimique contenant au moins l'un de ces éléments ou un alliage des métaux énumérés ci-dessus.
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