Şunu aradınız:: schleifmittelzusammensetzung (Almanca - Fransızca)

schleifmittelzusammensetzung
composition de polissage

schleifmittelzusammensetzung fÜr siliciumwafer
substance abrasive pour tranches de silicium

schleifmittelzusammensetzung und deren verwendung
composition abrasive et son utilisation

schleifmittelzusammensetzung und dieses gebrauchendes polierverfahren
composition de polissage et procédé de polissage utilisant cette composition

schleifmittelzusammensetzung und polierverfahren unter verwendung derselben
composition de polissage et procédé de polissage utilisant cette composition

schleifmittel bzw. schleifmittelzusammensetzung und verfahren zu deren herstellung
abrasif, ou composition abrasive et procédé de fabrication

schleifmittelzusammensetzung mit elektrolytischem wasser und polierverfahren unter anwendung derselben
composition abrasive contenant de l'eau électrolitique et procédé de polissage utilisant ladite composition

schleifmittelzusammensetzung enthaltend ein supra-abrasives material und seine verwendung
composition abrasive à base d'un matériau superabrasif et son utilisation

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1, wobei das dispersionsmedium nur aus dem anodenwasser besteht.
composition abrasive suivant la revendication 1, dans laquelle le milieu de dispersion consiste en l'eau anodique seulement.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1, worin die schleifinittelkomponente (a) quarzstaub oder kolloidales siliciumdioxid ist.
composition de polissage selon la revendication 1, dans laquelle le composant abrasif (a) est de la silice fumée ou de la silice colloïdale.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen ph-wert zwischen 1 und 5 aufweist.
une composition abrasive selon la revendication 1, caractérisée en ce que le ph de ladite composition est compris entre 1 et 5.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen ph-wert zwischen 2 und 3 aufweist.
une composition abrasive selon l'une des revendications 1 à 2, caractérisée en ce que le ph de ladite composition est compris entre 2 et 3.

schleifmittelzusammensetzung nach einem der ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das tensid in der zusammensetzung vom anionischen oder nichtionischen typ ist.
une composition abrasive selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisée en ce que l'agent tensioactif de ladite composition est de type anionique ou non ionique.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1 oder 2, worin die schleifmittelkomponente (a) eine teilchengröße im bereich von 70 bis 100 nm aufweist.
composition de polissage selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle le composant abrasif (a) a une taille de particules dans la plage de 70 à 100 nm.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1, wobei die schleifkörner schmirgel, quarzsand, manganstahlkugeln, glasperlen, pulverförmiges eisen oder pulverförmiges kieselgur umfassen.
composition abrasive suivant la revendication 1, dans laquelle les grains abrasifs comprennent de l'émeri, du sable siliceux, des billes d'acier au manganèse, des perles de verre, du fer en poudre ou de la terre de diatomées siliceuse en poudre.

wäßrige anschlämmung zum polieren oder planarisieren eines werkstücks, die 10 bis 16% schleifmittelzusammensetzung von anspruch 2 umfaßt, wobei der rest wasser ist.
pâte aqueuse pour polir ou aplanir une pièce en usinage comprenant 10 à 16 pour-cent de composition abrasive de la revendication 2, le restant étant de l'eau.

schleifmittelzusammensetzung nach anspruch 1, wobei die schleifkörner die eigenschaft aufweisen, daß sie auf ihrem umfang negative ladungen tragen, und die schleifkörner zusammen mit dem anodenwasser verwendet werden.
composition abrasive suivant la revendication 1, dans laquelle les grains abrasifs ont la propriété de porter des charges négatives à leur périphérie, et ces grains abrasifs sont utilisés en association avec l'eau anodique.

schleifmittelzusammensetzung nach einem der ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die gewichtskonzentration an schleifteilchen in der zusammensetzung zwischen 5% und 50% liegt.
une composition abrasive selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisée en ce que la concentration pondérale en particules abrasives de ladite composition est comprise entre 5 % et 50 %.

schleifmittelzusammensetzung nach einem der ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die volumenkonzentration des tensids in der zusammensetzung zwischen 0,001% und 5% liegt.
une composition abrasive selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que la concentration volumique d'agent tensioactif de ladite composition est comprise entre 0,001 % et 5 %.

polierverfahren, das umfasst das polieren eines halbleiterbauelements, das mindestens eine schicht aus kupfer und eine schicht aus einer tantal enthaltenden verbindung auf einem substrat ausgebildet aufweist, unter verwendung der in einem der ansprüche 1 bis 6 definierten schleifmittelzusammensetzung.
procédé de polissage, qui comprend le polissage d'un dispositif à semi-conducteur ayant au moins une couche de cuivre et une couche d'un composé contenant du tantale formées sur un substrat, en utilisant la composition de polissage telle que définie dans l'une quelconque des revendications 1 à 6.