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cho; molecular beam epitaxy allows semiconductor chips and laser matrices to be manufactured one atomic layer at a time.
cho; permite que os chips semicondutores e matrizes laser possam ser criados a um nível atômico de cada vez.
for all of the diffusion, epitaxy, and ald processes, we are able to give you the facts to help you select the right gas abatement device. the materials you use in your processes and maximum flow rates will need to be considered in configuring your abatement device.
para todos os processos de difusão, epitaxia e ald, a edwards pode auxiliá-lo a escolher o dispositivo certo de redução de gás. os materiais usados nos processos e as vazões máximas devem ser levados em consideração na configuração do dispositivo de redução.
==preparation and structure==in september 2014, g. le lay and others reported the deposition of a single atom thickness, ordered and two-dimensional multi-phase film by molecular beam epitaxy upon a gold surface in a crystal lattice with miller indices (111).
==preparação e estrutura==em setembro de 2014, g. le lay e outros relataram a deposição de um único átomo de espessura, em um filme ordenado de multi-fase bidimensional através de epitaxia de feixe molecular sobre uma superfície de ouro formando uma estrutura de cristal com os índices de miller (111).