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reinluftraum für eine halbleiterfertigungsanlage
local avec air purifié pour usine de semi-conducteurs
最后更新： 2014-12-03
使用频率： 1
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verfahren nach anspruch 33, das weiter das leiten des gases zu einer halbleiterfertigungsanlage zur verwendung darin umfaßt.
procédé selon la revendication 33, comprenant en outre l'écoulement du gaz vers un module de fabrication de semi-conducteurs pour l'utiliser dans celui-ci.
最后更新： 2014-12-03
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einrichtung nach anspruch 1, die in gasströmungsverbindung mit einer halbleiterfertigungsanlage zur verwendung des gases zur fertigung eines halbleiterprodukts geschaltet ist.
dispositif selon la revendication 1, relié pour le passage d'un courant gazeux avec une unité de fabrication de semi-conducteurs, afin d'utiliser le gaz pour la fabrication de produits semi-conducteurs.
最后更新： 2014-12-03
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