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vorrichtung (10) zum dissoziieren von reinigungsgas für die verwendung in der halbleiterfertigung, wobei die vorrichtung umfasst: ein gehäuse (12), das einen mikrowellenresonator umschließt; einen generator zum zuführen von mikrowellenenergie zum resonator (24); eine wärmesenkenvorrichtung nach anspruch 1, wobei das hohle element (16) innerhalb des gehäuses (12) montiert ist, und wobei innerhalb derselben das reinigungsgas veranlasst wird, zu strömen, und veranlasst wird, durch die mikrowellenenergie dissoziiert zu werden.
appareil (10) pour décomposer un gaz de nettoyage devant être utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, l'appareil comportant : une enceinte (12) renfermant un résonateur hyperfréquence; un générateur destiné à appliquer de l'énergie hyperfréquence (24) au résonateur ; un dispositif de dissipation de chaleur selon la revendication 1, dans lequel l'élément creux (16) est monté à l'intérieur de l'enveloppe (12) et dans lequel le gaz de nettoyage est amené à s'écouler et est amené à être dissocié par l'énergie hyperfréquence.
最后更新： 2014-12-03
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