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der film dient aber auch als fotolackschicht, wobei die platte auf herkömmliche weise geätzt werden kann.
the photopolymer film will also act as a conventional photo resist, allowing plates to be etched in the usual fashion.

substrat, das zwei silikonharz antireflektive schichte zwischen eine organische schicht und eine fotolackschicht enthält, sein herstellungsverfahren und musterungsprozess
substrate comprising two antireflective silicone resin layers between an organic layer and a photoresist layer, method for producing the same and patterning process using the same

verfahren nach anspruch 1, wobei die fotolackschicht (4) mit licht mit einer wellenlänge von 193 nm belichtet wird.
the method of claim 1 wherein the photoresist layer (4) is exposed with a light having a wavelength of 193 nm.

dabei wurde die fotolackschicht auf dem gesamten wafer (damals mit einem durchmesser von höchstens 100 mm) in einem schritt belichtet.
each shot located in a grid pattern on the wafer and is exposed in turn as the wafer is stepped back and forth under the lens.

feinstruktur-litographieverfahren unter verwendung von fotolackschichten und einer plattierten transferschicht.
multilevel resist plated transfer layer process for fine line lithography.