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n (mesio
n (mesio

bonjour mesio
hello sir

"m" (-me 3 sio-), "t"(-mesio., 2 -), "q"(-sio 4 -).
pct/fr99/03214, filed dec.

un procédé tel que défini à la revendication 15, dans lequel on isole un homopolymère cyclique de formule générale (h 2 nch 2 ch 2 ch 2 mesio)
a process as defined in claim 15 wherein a cyclic homopolymer of the general formula (h 2 nch 2 ch 2 ch 2 mesio) 3 is isolated

l'invention concerne des revêtements antiréfléchissants produits à partir de résine silsesquioxane qui comprennent les unités (ph(ch2)rsio(3_x)/2(or')x)m (hsio(3_x)/2(or')x)n (mesio(3.x)/2(or')x)o (rsio(3-x)/2(or')x)p (r1sio(3-x)/2(or')x)q dans lesquelles ph représente un groupe phényle, me représente un groupe méthyle; r' représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarbure possédant entre 1 et 4 atomes de carbone; r est sélectionné parmi un groupe acide carboxylique ou un groupe formateur d'acide carboxylique sous réserve qu'il y ait une quantité suffisante de groupes acide carboxylique pour rendre la résine gravable à l'état humide après cuisson; et r est sélectionné à partir de groupes phényle substitués, de groupes ester, de groupes polyéther; des groupes mercapto, des groupes fonctionnels organiques contenant du soufre, un groupe producteur d'hydroxyle, des groupes ester arylsulphonique, et des groupes fonctionnels organiques réactifs ou durcissables; la valeur de r étant égale à 0, 1, 2, 3, ou 4; la valeur de x étant égale à 0, 1 ou 2. dans la résine, la valeur de m est comprise entre 0 et 0,90; la valeur de n est comprise entre 0,05 et 0,99; la valeur de o est comprise entre 0 et 0,95; la valeur de p est comprise entre 0,01 et 0,5; la valeur de q est comprise entre 0 et 0,5; et m + n + o + p + q ≈ 1.
antireflective coatings produced from silsesquioxane resin is comprised of the units (ph(ch2)rsio(3_x)/2(or')x)m (hsio(3_x)/2(or')x)n (mesio(3.x)/2(or')x)o (rsio(3-x)/2(or')x)p (r1sio(3-x)/2(or')x)q where ph is a phenyl group, me is a methyl group; r' is hydrogen atom or a hydrocarbon group having from 1 to 4 carbon atoms; r is selected from a carboxylic acid group or a carboxylic acid forming group with the proviso that there is a sufficient amount of carboxylic acid groups to make the resin wet etchable after cure; and r is selected from substituted phenyl groups, ester groups, polyether groups; mercapto groups, sulfur-containing organic functional groups, hydroxyl producing group, aryl sulphonic ester groups, and reactive or curable organic functional groups; and r has a value of 0, 1, 2, 3, or 4; x has a value of 0, 1 or 2; wherein in the resin m has a value of 0 to 0.90; n has a value of 0.05 to 0.99; o has a value of 0 to 0.95; p has a value of 0.01 to 0.5; q has a value of 0 to 0.5; and m + n + o + p + q ≈ 1.