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doped and undoped
dotiert und undotiert

undoped silicon oxide
reines siliziumoxid

lithium niobate wafer, undoped
lithium-niobat-scheiben, nicht dotiert

group iii nitride led with undoped cladding layer
gruppe-iii-nitrid-led mit undotierter mantelschicht

doped and undoped single crystal multilayered structures.
dotierte und nicht-dotierte, einkristaline, mehrschichtige strukturen.

material for doped and undoped hole and electron transport layer
material fÜr eine dotierte und undotierte loch- und elektronentransportschicht

method for etching doped polysilicon with high selectivity to undoped polysilicon
Ätzmethode von dotiertem polysilizium mit hoher selektivitÄt zu undotiertem polysilizium

group iii nitride led with undoped cladding layer and multiple quantum well
gruppe-iii-nitrid-led mit undotierter mantelschicht und mehrfach-quanten mulde

undoped silicon dioxide as etch stop for selective etch of doped silicon dioxide
Ätzstopschicht aus undotiertem silizium-oxid fÜr die selektive Ätzung von dotiertem silizium-oxid

an undoped silicon layer (4) is deposited over the entire surface.
es wird ganzflächig eine undotierte siliziumschicht (4) abgeschieden.

the macroporous silicon preferably used may be doped, preferably n-doped, or undoped.
das vorzugsweise verwendete makroporöse silizium kann dabei dotiert, vorzugsweise n-dotiert, oder undotiert sein.

*ex38249097 | 25 | lithium tantalate wafers, undoped | 0 % | 31.12.2013 |
*ex38249097 | 25 | lithium-tantalat-scheiben, nicht dotiert | 0 % | 1.1.2009- 31.12.2013 |

ex38249099 | 25 | lithium tantalate wafers, undoped | 0 | 1.1.2006 to 31.12.2008 |
ex38249099 | 25 | lithium-tantalat-scheiben, nicht dotiert | 0 | 1.1.2006- 31.12.2008 |