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gasversorgungseinheit für bearbeitungskammer
a processing chamber gas distribution manifold

substratbearbeitungsvorrichtung mit batch-bearbeitungskammer
substrate processing apparatus using a batch processing chamber

plasmaschutz in einer vakuum bearbeitungskammer
plasma guard for use in a vacuum process chamber

vorrichtung zur unterstützung von substrate in bearbeitungskammer
apparatus for supporting substrates in processing chambers

elektrostatische haltevorrichtung für substrat in einen bearbeitungskammer
electrostatic chuck for a substrate in a process chamber

system zur fÖrderung von giftmÜllfÄsser in einer bearbeitungskammer
system for feeding toxic waste drums into a treatment chamber

partikeln-entfernungsverfahren in einer plasma-bearbeitungskammer.
method of removing particles in a plasma processing chamber.

bearbeitungskammer zur plasma behandlung und diese bearbeitungskammer benutzende vorrichtung
process chamber for plasma processing and apparatus employing said process chamber

vorrichtung zum kontinuierlichen fördern und drehen von körpern durch eine bearbeitungskammer.
device for continuously transporting and tumbling workpieces through a working cabinet.

bearbeitungskammer zur plasma gesteigerte chemischen dampfphasenabscheidung und diese bearbeitungskammer benutzende vorrichtung
process chamber for plasma enhanced chemical vapour deposition and apparatus employing said process chamber

verfahren zum bestimmen der menge eines in eine bearbeitungskammer fÜr materialien einzubringenden explosiven gasgemisches.
process for determining the quantity of an explosive gas mixture to be introduced into a chamber for processing materials.

bearbeitungskammer (2) nach irgendeinem der ansprüche 1 bis 32, die weiter ein zerstäuberziel umfasst.
the process chamber (2) according to any one of claims 1 to 32, further comprising a sputtering target.

bearbeitungskammer (2) nach anspruch 19, wobei das leitmittel (16) die genannte lonenquelle darstellt.
the process chamber (2) according to claim 19, wherein said conductive means (16) constitutes said ion source.

bearbeitungskammer (2) nach irgendeinem der ansprüche 1 bis 18, die eine lonenquelle (16, 100, 104, 110) beinhaltet.
the process chamber (2) according to any one of claims 1 to 18, containing an ion source (16; 100, 104; 110) therewithin.

bearbeitungskammer (2) nach anspruch 19, wobei die lonenquelle eine kathode (100) assoziiert mit einem magnetron (104) umfasst.
the process chamber (2) according to claim 19, wherein said ion source comprises a cathode (100) associated with a magnetron (104).