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glimmentladungsaktivierte gasphasenabscheidung
glow discharge-generated chemical vapor deposition

material zur gasphasenabscheidung
vapor deposition material

gasphasenabscheidung von halbleitermaterial.
vapor phase deposition of semiconductor material.

gasphasenabscheidung von perfluorierten alkylsilanen
gas phase deposition of perfluorinated alkyl silanes

anlage zur plasmachemischen gasphasenabscheidung.
plasma chemical vapor deposition apparatus.

substrate und verfahren zur gasphasenabscheidung
substrates and methods for gas phase deposition

verfahren zur gasphasenabscheidung von polysilanen.
process for the vapor deposition of polysilanes.

vorrichtung zur gasphasenabscheidung dünner schichten
thin-film vapor deposition apparatus

reaktivgasinjektor für vorrichtung zur chemischen gasphasenabscheidung
reactant gas injector for chemical vapor deposition apparatus

vorrichtung und verfahren zur chemischen gasphasenabscheidung.
apparatus and process for chemical vapor deposition.

halbselektive chemische gasphasenabscheidung von leitfähigem material
semi-selective chemical vapor deposition of conducting material

system und verfahren zur selektiven chemischen gasphasenabscheidung
system and method for preferential chemical vapor deposition

‚außenseitige gasphasenabscheidung‘) ist die älteste herstellungsmethode.
this range of angles is called the acceptance cone of the fiber.

herstellung von leichten keramischen spiegeln mittels chemischer gasphasenabscheidung.
fabrication of lightweight ceramic mirrors by means of a chemical vapor deposition process.

plasma-gasphasenabscheidung mittels modulierter spulenzerstÄubungsleistung fÜr iioniserte metallplasmaabscheidung
modulated power for ionized metal plasma deposition

gasphasenabscheidungen mittels ionenextraction aus einem plasma.
physical vapor deposition employing ion extraction from a plasma.