Sie suchten nach: fotolitografia (Italienisch - Tschechisch)

Menschliche Beiträge

Von professionellen Übersetzern, Unternehmen, Websites und kostenlos verfügbaren Übersetzungsdatenbanken.

Übersetzung hinzufügen

Italienisch

Tschechisch

Info

Italienisch

fotolitografia

Tschechisch

fotolitografie

Letzte Aktualisierung: 2012-11-02
Nutzungshäufigkeit: 1
Qualität:

Referenz: Wikipedia

Italienisch

4.2.1 fotolitografia: è il processo con cui, in genere, si disegnano microcircuiti sui chip dei computer.

Tschechisch

4.2.1 fotolitografie: obecně řečeno se jedná o postup vytváření struktury počítačového čipu.

Letzte Aktualisierung: 2014-10-23
Nutzungshäufigkeit: 1
Qualität:

Referenz: Wikipedia

Italienisch

esistono altri impieghi più limitati e specifici nei settori della cromatura, della fotografia, della fotolitografia, delle schiume antincendio e dei fluidi idraulici per l'aviazione.

Tschechisch

dále se tyto látky používají v některých oblastech méně rozsáhlého a zvláštního využití, jako je chromování, fotografický průmysl, fotolitografie, náplně do pěnových hasicích přístrojů a hydraulické kapaliny v letectví.

Letzte Aktualisierung: 2014-10-23
Nutzungshäufigkeit: 1
Qualität:

Referenz: Wikipedia

Italienisch

altri impieghi, quantitativamente più limitati, riguardano i settori della cromatura, della fotografia, della fotolitografia, delle schiume antincendio e dei fluidi idraulici per l'aviazione.

Tschechisch

k dalšímu využití pak v menší míře dochází při chromování, ve fotografickém průmyslu, fotolitografii, v náplních do pěnových hasicích přístrojů a v hydraulických kapalinách v letectví.

Letzte Aktualisierung: 2014-10-23
Nutzungshäufigkeit: 1
Qualität:

Referenz: Wikipedia

Italienisch

4.2.1 fotolitografia: è il processo con cui, in genere, si disegnano microcircuiti sui chip dei computer. i nuovi sviluppi nel campo della fabbricazione di semiconduttori rendono necessari speciali fluidi di processo che consentono di effettuare quest'operazione in modo estremamente affidabile e con grande densità e uniformità. l'industria dei semiconduttori considera le sostanze di tipo pfos cruciali per il buon esito del processo, in quanto presentano proprietà elettrochimiche e tensioattive senza pari. questi fluidi di processo, che non rimangono sui prodotti finiti, devono rispondere a rigorose specifiche tecniche e sono testati per ogni tecnologia in ogni stabilimento di ogni produttore. poiché sono usati in ambienti di produzione tipo clean room, da cui viene eliminata qualsiasi forma di contaminazione, un'esposizione degli operatori sul luogo di lavoro non è possibile. stando al bilancio di massa del settore per il 2002, la quantità totale annua di emissioni era inferiore a 45 kg. i tempi di sviluppo dei prodotti possono raggiungere anche dieci anni. malgrado un'intensa attività di ricerca e sviluppo sul piano mondiale, per questi utilizzi residui non è ancora stato identificato un prodotto sostitutivo. la via più promettente per il ritiro delle sostanze di tipo pfos potrebbe essere un nuovo metodo di fabbricazione dei chip, ancora da inventare. in mancanza della deroga prevista l'attività di fabbricazione non potrebbe più svolgersi nel territorio dell'ue, anche se potrebbe proseguire senza difficoltà altrove. tutto sommato, in assenza di nuovi motivi di preoccupazione, il comitato raccomanda di non prevedere una data di scadenza per la deroga in esame.

Tschechisch

4.2.1 fotolitografie: obecně řečeno se jedná o postup vytváření struktury počítačového čipu. nový vývoj ve výrobě polovodičů vyžaduje specializované procesní kapaliny umožňující vytváření struktury s vysokou spolehlivostí, hustotou a mírou jednotnosti. látky související s pfos nabízejí jedinečné elektrochemické a povrchově aktivní vlastnosti a považují se v polovodičovém průmyslu za kritický prvek úspěšnosti procesu. procesní kapaliny, které nezůstávají obsaženy v konečných výrobcích, jsou předmětem přísné specifikace a testování pro každou technologii každého provozu každého výrobce. vzhledem k použití v "čistých provozech", tedy výrobním prostředí, kde je nutné vyloučit jakékoliv znečištění, neexistuje nebezpečí expozice na pracovišti. podle hmotnostní bilance tohoto průmyslu za rok 2002 nepřesahovaly emise 45 kg ročně. doba potřebná k vývoji produktu je až deset let. přes rozsáhlý světový vav se pro tato zbývající použití nenašly žádné náhrady. nejpravděpodobnější cestou vyloučení látek souvisejících s pfos by mohla být nová metoda výroby čipů, která na svůj objev teprve čeká. pokud by tato odchylka neexistovala, nemohla by v eu výroba čipů probíhat, přestože kdekoliv jinde by bez obtíží mohla pokračovat. vzhledem k uvedeným faktům a vzhledem k tomu, že se neobjevily žádné nové závažné skutečnosti, doporučuje ehsv, aby pro zrušení této odchylky nebyla stanovována žádná lhůta.

Letzte Aktualisierung: 2008-03-04
Nutzungshäufigkeit: 3
Qualität:

Referenz: Anonym
Warnung: Enthält unsichtbare HTML-Formatierung

Eine bessere Übersetzung mit
7,800,414,202 menschlichen Beiträgen

Benutzer bitten jetzt um Hilfe:



Wir verwenden Cookies zur Verbesserung Ihrer Erfahrung. Wenn Sie den Besuch dieser Website fortsetzen, erklären Sie sich mit der Verwendung von Cookies einverstanden. Erfahren Sie mehr. OK