Results for lithography translation from English to Bulgarian

lithography
Литография

lithography equipment as follows:
Литографско оборудване, както следва:

f. lithography equipment as follows:
f. Литографско оборудване, както следва:

step and flash imprint lithography (s-fil) tools
Инструменти за литографски печат s-fil (step and flash imprint

asm lithography is a spin-off from a division of philips.
asm lithography е отцепено от отдел на philips.

for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
За оптични огледала, специално проектирани за литографско оборудване, вж. 3b001.

imprint lithography equipment capable of producing features of 95 nm or less;
Оборудване за литографски печат, способно да печата елементи от 95 nm или по-малки;

i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
i. Шаблони за литографски печат, проектирани за интегрираните схеми, описани в 3a001.

’aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
n.b.:За „асферичните оптични елементи“, специално проектирани за литографско оборудване вж. 3b001.

for ‘aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
За „асферичните оптични елементи“, специално проектирани за литографско оборудване вж. 3b001.

a variety of advanced techniques for nano-scale manufacture (lithography or microscopy based techniques);
разнообразни усъвършенствани методи за производство в наномащаби (методи на основата на литографията или микроскопията);

n.b.:for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001.
n.b.:За ексимерни „лазери“, специално проектирани за литографско оборудване, вж. 3b001.

a. positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
a. Съпротивителни материали, проектирани за полупроводникова литография, специално приспособени (оптимизирани) за използване при дължини на вълната под 245 nm;

positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
Съпротивителни материали, проектирани за полупроводникова литография, специално приспособени (оптимизирани) за използване при дължини на вълната под 245 nm;

all resists designed or optimised for use with imprint lithography equipment specified in 3b001.f.2. that use either a thermal or photo-curable process.
Всички съпротивителни покрития, проектирани или оптимизирани за употреба с оборудването за литографски печат, посочено в 3b001.f.2., което използва или термален процес, или процес на фотообработка.

e. all resists designed or optimised for use with imprint lithography equipment specified in 3b001.f.2. that use either a thermal or photo-curable process.
е. Всички съпротивителни покрития, проектирани или оптимизирани за употреба с оборудването за литографски печат, посочено в 3b001.f.2., което използва или термален процес, или процес на фотообработка.

in addition, following an in-depth economic assessment, the commission decided not to raise objections to ten individually notifiable aids to large r&d projects referring to new processes for bio-methane production, use of composite materials for the construction of specific components of aero-structures, and lithography for semiconductor devices.
Освен това след задълбочена икономическа оценка Комисията реши да не повдига възражения срещу десет уведомления за индивидуални помощи за големи проекти за научноизследователска и развойна дейност, свързани с нови процеси за производство на биометан, използване на композитни материали за изграждане на специфични компоненти за въздухоплавателни конструкции и литография за полупроводникови устройства.