Results for lithography translation from English to Dutch

lithography
lithografie

colour lithography
kleurensteendrukkunst

photo-lithography
fotolithografie

glass for lithography
glas voor reproduktiedoeleinden

lithography equipment as follows:
lithografische apparatuur, als hieronder:

stored programme controlled lithography
met opgeslagen programma bestuurde lithografie

f. lithography equipment as follows:
lithografische apparatuur, als hieronder:

step and flash imprint lithography (s-fil) tools
apparatuur voor s-fil (step and flash imprint lithography);

planographic techniques include lithography, monotyping, and digital techniques.
offset is tegenwoordig geheel afhankelijk van digitale technieken geworden.

current lithography still relies on photo masks for that purpose.
momenteel wordt in de sector voor dat doel nog gebruik gemaakt van fotomaskers.

for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor optische spiegels die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

therefore, urdu resorted to lithography while other languages adopted typeset.
daarom werd voor urdu lithografie gebruikt, terwijl andere talen werden gezet.

i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
i. imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3a001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.

for excimer “lasers” specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor excimeer-„lasers” die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

’aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
n.b.:voor ’asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

for ‘aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor ‚asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

n.b.: for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.
nb: voor asferische optische elementen, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

n.b.: for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001
nb: voor excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.

n.b.:for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001.
excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.