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a positive resist composition capable of forming a high-resolution pattern reduced in ler
une formule de photorésine positive susceptible de former un motif de haute résolution et de rugosité de flancs de motif (ler) réduite
the polymer compound for photoresists can reduce ler, while exhibiting excellent workability and resolution.
le composé polymère pour photorésines permet de réduire la rugosité de bord de ligne (ler), et présente une excellente aptitude au façonnage et une excellente résolution.