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etch rate control

German

Ätzratensteuerung

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

English

oxide-etch-rate modification

German

abwandlung der oxidätzungsgeschwindigkeit

Last Update: 2014-11-13
Usage Frequency: 3
Quality:

Reference: IATE

English

method and apparatus for etch rate stabilization

German

verfahren und gerÄt zur stabilisierung der Ätzrate

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

apparatus and method for etch rate monitoring.

German

vorrichtung und verfahren zum messen der Ätzgeschwindigkeit.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

metal etching process with etch rate enhancement.

German

Ätzverfahren für metalle mit erhöhter Ätzgeschwindigkeit.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

manufacturing method, including etch-rate monitoring.

German

herstellungsverfahren mit Überwachung der Ätzgeschwindigkeit.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method for optimising the etch rate of a polycrystalline layer

German

methode zur optimierung der Ätzgeschwindigkeit einer polykristallinen schicht

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

real time measurement of etch rate during a chemical etching process

German

echt-zeit-messung der Ätzate während eines chemischen Ätzverfahrens

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

methods for silicon electrode assembly etch rate and etch uniformity recovery

German

verfahren zur wiederherstellung der Ätzrate und der Ätzeinheitlichkeit bei siliziumelektrodenanordnungen

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method of forming phosphosilicate glass having a high wet-etch rate

German

verfahren zum herstellen von phosphosilikatglas mit einer hohen nassÄtzgeschwindigkeit

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method for improving uniformity and reducing etch rate variation of etching polysilicon

German

verfahren zur Ätzung von polysilizium mit einer verbesserten homogenitÄt und einer reduzierten Ätzratevariation

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

temperature controlled hot edge ring assembly for reducing plasma reactor etch rate drift

German

temperaturgesteuerte heissrand-ringbaugruppe zur verringerung des plasmareaktor-Ätzratendriftens

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

control of etch rate ratio of sio2/photoresist for quartz planarization etch back process.

German

Überwachung der Ätzgeschwindigkeit des sio2/fotoresist-verhältnisses in einem Ätzverfahren zur einebnung von quarz.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

a dry method of etching and an apparatus using solid masking materials for etch rate modification.

German

gasätzverfahren und vorrichtung, in der feste maskiermaterialien zur veränderung der Ätzgeschwindigkeit verwendung finden.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

etch rates increase strongly with concentration and temperature.

German

die Ätzrate steigt mit konzentration und temperatur des Ätzmediums.

Last Update: 2016-03-03
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method and apparatus for monitoring growth and etch rates of materials

German

verfahren und vorrichtung zur Überwachung der wachstums- und Ätzgeschwindigkeit von materialien

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

method of plasma etching doped polysilicon layers with uniform etch rates

German

plasmaätzverfahren von dotierten polysilizium schichten mit gleichmässigen Ätzgeschwindigkeiten

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

dielectric etch method with high density and low bombardment energy plasma providing high etch rates

German

hohe Ätzgeschwindigkeiten dielektrischer materialien mittels plasma hoher dichte und niedriger bombardierungsenergie

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
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Reference: IATE

English

chlorofluorocarbon additives for enhancing etch rates in fluorinated halocarbon/oxidant plasmas.

German

erhöhung der Ätzgewschwindigkeit in fluorierten halogenkohlenstoff oxydierenden plasmas mit chlorfluorierten kohlenstoffhaltigen zusätzen.

Last Update: 2014-11-28
Usage Frequency: 2
Quality:

Reference: IATE

English

selectivity, anisotropy and etch rates can be controlled through the process chemistry (gases) and process parameters (rf-power, pressure, gas flow, substrate cooling etc.).

German

selektivität, anisotropie und Ätzrate sind durch “prozess-chemie“ (gase) und prozessparameter (rf-leistung, druck, gasfluss, substrat-kühlung, usw. ) einstellbar.

Last Update: 2018-02-13
Usage Frequency: 1
Quality:

Reference: IATE

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