Results for ionisoimaton translation from Finnish to French

ionisoimaton säteily
rayonnement non ionisant

3. luku: ionisoimaton säteily
chapitre 3: les rayonnements non ionisants

1. luku: katsaus historiaan 3. luku: ionisoimaton säteily
chapitre 1: introduction historique chapitre 3: les rayonnements non ionisants

ensimmäisellä oppitunnilla olet oppinut, että säteily voi olla ionisoivaa tai ionisoimaton ta.
la première leçon nous a appris que les rayonnements peuvent être de type ionisant ou non ionisant.

"ja ionisoimaton säteily ei sitten kai voi aiheuttaa tämänkaltaista muutosta, vai?"
"alors les rayonnements non ionisants sont incapables de provoquer cette modification je suppose?"

luku 1: katsaus historiaan luku 3: ionisoimaton säteily luku 8: ionisoivan säteilyn annokset
chapitre 1: introduction historique chapitre 3: rayonnements non ionisants chapitre 8: doses de rayonnements ionisants

ionisoimaton sÄteily (non­ionizing radiation): säteily, joka ei kykene aiheuttamaan ionisaatiota. esimerkkejä ovat ultraviolettivalo, radioaallot tai ääniaallot.
dose par voie interne: dose absorbée due aux rayonnements provenant de l'activité incorporée dans les tissus de la personne.

"kaikki se säteily 'ionisoiva ja ionisoimaton' — tai jotakin sinne päin. ymmärsitkö sinä, mitä hän tarkoitti?"
"toute cette histoire de rayonnements "ionosants et non ionosants" ou quelque chose comme ça, as-tu compris toi angela?"

lähteet voidaan luokitella niiden tyypin mukaan (luonnolliset ja keinotekoiset lähteet) ja niiden aiheuttaman säteilyn tyypin mukaan (ionisoiva ja ionisoimaton säteily).
ces sources doivent être classées suivant leur nature (sources naturelles ou artificielles) et suivant le type de rayonnements émis (ionisants et non ionisants).

ioni-pinnoitus (-pvd) on te-pvd -prosessin muunnos, jossa plasma- tai ionilähdettä käytetään ionisoimaan pinnoitettavia aineksia ja negatiivinen biasjännite johdetaan substraattiin pinnoitusaineksien erottamiseksi plasmasta.
le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (te-pvd) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau.