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German

Verfahren zum Herstellen eines Feldemissionselementes nach einem der Ansprüche 1 bis 12, welches folgendes aufweist: ein Verfahren zum Bilden einer Ätzschutzmaske (9; 36) auf einem Substrat (1); einem photolithographischen Verfahren zum Bilden einer Begrenzung auf der Ätzschutzmaske (9; 36); einem Kathodenbildungsverfahren zum Bilden einer einen spitzen Winkel (Õ) zwischen einer erhabenen Fläche (2; 31) auf dem Substrate (1) formenden Stufe (3; 12; 38) durch Anwenden von Ätzen aus einer schrägen Richtung entlang der auf der Ätzschutzmaske (9; 36) gebildeten Begrenzung; ein Verfahren zum Bilden einer Isolationsschicht (10; 39) auf dem Substrat (1) unter Verwendung der Ätzschutzmaske (9; 36), und einer Gate-Elektrode (7, 7'; 14, 14'; 33) auf der Isolationsschicht (10; 39); und ein Verfahren zum Entfernen der Ätzschutzmaske (9; 36), wobei die Isolationsschicht (10; 39) und die Gate-Elektrode (7'; 14') an der erhabenen Fläche (2; 31) durch Anwendung eines Abhebeverfahrens gebildet werden.

English

A process to fabricate a field-emission element of claims 1 to 12 comprising : a process to form an etching protection mask (9; 36) on a substrate (1); a photolithographic process to form a boundary on said etching protection mask (9; 36); a cathode forming process to form a step (3; 12; 38) making an acute angle () between an elevated surface (2; 31) on said substrate (1) by applying an etching from an oblique direction along said boundary formed on said etching protection mask (9; 36); a process to form an insulation layer (10; 39) on said substrate (1) by using said etching protection mask (9; 36) and a gate electrode (7, 7'; 14, 14'; 33) on said insulation layer (10; 39); and a process to remove said etching protection mask (9; 36), said insulation layer (10; 39) and gate electrode (7'; 14') formed on said elevated surface (2; 31) by applying a lift-off method.

Last Update: 2014-12-05
Usage Frequency: 1
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German

Verfahren zum Herstellen eines Feldemissionselementes nach Anspruch 13, bei dem das Kathodenbildungsverfahren folgendes umfaßt: ein Verfahren zum Bilden der erhabenen Fläche (31), der Basisfläche und einer Stufe (38) dazwischen durch Anwenden von Trockenätzen, das aus einer vertikalen und einer schrägen Richtung entlang der Begrenzung gewählt ist; und ein anisotropes Feuchtätzverfahren zum Bilden einer Dreieckspyramidenkathode (30).

English

A process to fabricate a field-emission element according to claim 13, wherein the cathode forming process comprises: a process to form said elevated surface (31), base surface and a step (38) in-between, by applying a dry-etching selected from a vertical or an oblique direction along said boundary; a wet anisotropic-etching process to form a triangular pyramid cathode (30).

Last Update: 2014-12-05
Usage Frequency: 1
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German

Verfahren zum Herstellen eines Feldemissionselementes nach Anspruch 13, bei dem das Kathodenbildungsverfahren folgendes umfaßt: ein Verfahren zum Bilden der erhabenen Fläche (2) einschließlich des dazwischenliegenden Verfahrensschrittes durch Anwenden von Trockenätzen, das aus einer vertikalen und einer schrägen Richtung entlang der Begrenzung gewählt ist; und ein Verfahren zum Bilden einer V-förmigen, einen spitzen Winkel mit der erhabenen Fläche einschließenden Stufe (12) durch Anwenden eines anisotropen Feuchtätzens.

English

A process to fabricate a field-emission element according to claim 13, wherein the cathode forming process comprises: a process to form said elevated surface (2) including said step in-between by applying a dry-etching, selected from a vertical and an oblique direction along said boundary; a process to form a V-shaped step (12) making an acute angle with said elevated surface by applying a wet anisotropic-etching.

Last Update: 2014-12-05
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