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l'uso della simulazione permette di tagliare i costi di sviluppo nelle applicazioni del metodo cvd migliorando allo stesso tempo le rese.
le recours à la simulation permet d'abaisser les coûts de développement en appliquant des procédés cvd et d'améliorer les rendements.
le aree d'applicazione prescelte sono la metallizzazione del siliciuro, la deposizione di tungsteno a mantello cvd ed i dielettrici intermetallici.
des travaux complémentaires en matière de caractérisation du procédé et de l'étude préliminaire de la version ultérieure du réacteur sont en cours chez asml.
1: la deposizione in fase di vapore di elementi chimici comprende i processi seguenti: deposizione fuori cassetta con flusso di gas diretto, deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi (cvd), deposizione termica per nucleazione controllata (cntd), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.n.b. della plastica, fabbricati con leghe contenenti meno del 5 % di berillio.
1 le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (cvd) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (cntd), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.n.b. r le moulage de plastiques, fabriqués à partir d'alliage contenant moins de 5 % de bérillium.