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die kommission genehmigte mehrere fuevorhaben auf dem gebiet der lithografie, die im hinblick auf die verfeinerung der struk
nel settore della litografia, che svolge un ruolo chiave per la definizione della struttura precisa dei circuiti integrati, la commissione ha approvato numerosi progetti di ricerca e sviluppo (').
lithografie ist jene phase der chipherstellung, bei der photoresistente materialien dem licht ausgesetzt und so ultrafeine elektronische bauteile gefertigt werden.
la litografia costituisce quella parte della fabbricazione di chip nella quale vengono prodotti elementi elettronici ultrafini esponendo alla luce materiali fotoresistenti.
das vorhaben betrifft die errichtung eines neuen produktionsstandortes zur herstellung von kalziumfluoridkristallen für die optische lithografie, die bei der produktion von wafersteppern anwendung findet.
durante il procedimentod’indagine, che la commissione ha avviato nel gennaio 2002, due concorrenti e un’associazione diaziende agricole hanno espresso riserve in merito al progetto, condividendo i dubbi della commissione.la commissione ha concluso il procedimento di indagine rilevando che il mercato del caprolattame è inrelativo declino (rispetto alla media del settore manifatturiero).
die kommission genehmigte mehrere fue-vorhaben auf dem gebiet der lithografie, die im hinblick auf die verfeinerung der strukturen integrierter schaltkreise eine schlüsselrolle spielt.275
nel settore della litografia, che svolge un ruolo chiave per la definizione della struttura precisa dei circuiti integrati, la commissione ha approvato numerosi progetti di ricerca e sviluppo275.
anmerkung: für eximer-"laser", besonders konstruiert für lithografie-ausrüstung: siehe nummer 3b001.
nb: per i "laser" ad eccimeri appositamente progettati per apparecchiature di litografia vedere 3b001.
ergänzende anmerkung:für excimer"laser", besonders konstruiert für lithografie-ausrüstung: siehe nummer 3b001.
nb:per i "laser" ad eccimeri appositamente progettati per apparecchiature di litografia vedere 3b001.
a) positiv-fotoresists, entwickelt für die halbleiter-lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den einsatz bei wellenlängen kleiner als 245 nm;
resine fotosensibili (resist) positive progettate per litografia di semiconduttori appositamente adattate (ottimizzate) per l'impiego con lunghezze d'onda inferiori a 245 nm;