De traductores profesionales, empresas, páginas web y repositorios de traducción de libre uso.
a katódporlasztás olyan rétegfelviteli folyamat, amelyben pozitív töltésű részecskéket gyorsítanak és mozgatnak elektromos térben a céltárgy (bevonóanyag) felszíne felé.
sputter deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).
katódporlasztás útján fémréteggel, fém-nitriddel, fém-oxiddal vagy fém-karbiddal bevont poliéter-szulfon fóliák,
films of polyether sulphone covered by cathodic deposition process with a layer of metal, a metallic nitride, metallic oxide or metallic carbide
jelenleg műszakilag nem oldható meg a katódporlasztás során inhibitorként használt higany helyettesítése a legfeljebb 30 mg higanyt tartalmazó egyenáramú plazmakijelzők esetében; 2010. július 1-jére azonban ez várhatóan kivitelezhető lesz.
substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in dc plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 july 2010.
ez magában foglalja azokat az eljárásokat, amelyek során az ionbeültetés az elektronsugaras fizikai gőzfázisú leválasztással vagy katódporlasztással egyidejűleg történik.
this includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.