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[0052] part of the deposited radioactive substances can also be dissolved in the etching reagent.
une partie des dépôts de substances radioactives peut être également dissoute dans le réactif d'attaque.
method for the wet-chemical etching of tio2 thin-films and tio2 particles and etching reagent
procÉdÉ de gravure chimique en milieu humide sur couches minces de tio2 et sur particules de tio2, et agent de gravure chimique
a first control circuit maintains the density of the etching reagent in the etching machine essentially constant
un premier circuit de réglage maintient une densité essentiellement constante de produit décapant dans la machine à décaper
a method as in claim 27 wherein step (f) comprises applying an etching reagent to the strand.
procédé selon la revendication 27, dans lequel l'étape (f) consiste à appliquer un réactif de gravure sur le fil.
an installation for etching objects comprises at least one etching machine in which metal is etched from the treated objects and the etching reagent is enriched with metal
une installation de décapage d'objets comporte au moins une machine à décaper, dans laquelle du métal est enlevé par décapage des objets traités, le produit décapant s'enrichissant en métal
to this end, the depleted etching reagent is conveyed from the first buffer tank to the etching machine and the enriched etching agent is conveyed from the etching machine to the second buffer tank
a cet effet, du produit décapant appauvri est amené du premier réservoir-tampon vers la machine à décaper et du produit décapant enrichi est évacué de la machine à décaper vers le second réservoir-tampon
the mixtures are also suitable for use as etching reagents in the metal processing and glass industries.
lesdits mélanges conviennent également comme agents de gravure dans le travail des métaux et dans l'industrie du verre.
the reagents comprise components optimized to facilitate removal or etching of the embedding media from the biological sample
ces réactifs comprennent des composants optimisés afin qu'ils facilitent l'élimination ou l'attaque des milieux d'inclusion de l'échantillon biologique
the reagents comprise components optimized to facilitate removal or etching of the embedding media from the biological sample.
les réactifs comprennent des composants optimisés de façon à faciliter le retrait ou l'attaque chimique des milieux d'inclusion de l'échantillon biologique.
for adaptation to different instantaneous etching capacities (loads) of the machine, the electrolytic cells are connected in succession by a device which integrates the quantity of enriched etching reagent removed from the etching machine over a given time
afin de pouvoir s'adapter à différentes puissances (ou charges) de décapage de la machine à décaper, les cellules d'électrolyse sont mises en circuit successivement grâce à un dispositif qui détermine par intégration la quantité de produit décapant enrichi évacuée de la machine à décaper pendant un certain intervalle de temps
a second control circuit maintains an essentially constant density in the electrolytic cell; to this end, enriched etching reagent is conveyed from the second buffer tank to the electrolytic cell and an equivalent quantity of depleted etching reagent is conveyed from the electrolytic cell to the first buffer tank
un second circuit de réglage maintient une densité essentiellement constante dans la cellule d'électrolyse, du produit décapant enrichi étant amené du second réservoir-tampon vers la cellule d'électrolyse et une quantité correspondante de produit décapant appauvri étant évacuée de la cellule d'électrolyse vers le premier réservoir-tampon
however, the device according to the invention is not limited to the application of paint, and other liquid products, such as for example glue, etching reagent, or coatings based on bitumen, can also be applied by this device.
toutefois, le dispositif suivant l'invention n'est pas limité à l'application de peinture et d'autres produits liquides, comme par exemple de la colle, un décapant, des coatings à base de bitume, peuvent également être appliqués par ce dispositif.
methods provided include a method for forming vias in parallel in an elastomeric layer of an elastomeric block of a microfluidic device, the method includes using patterned photoresist masks and etching reagents to etch away regions or portions of an elastomeric layer of the elastomeric block
les méthodes fournies comprennent une méthode pour former des voies en parallèle dans une couche élastomère d'un bloc élastomère d'un dispositif microfluide, la méthode comprenant l'utilisation de masques photorésistants imprimés et de réactifs d'attaque pour détacher des zones ou des portions d'une couche élastomère du bloc élastomère
methods provided include a method for forming vias in parallel in an elastomeric layer of an elastomeric block of a microfluidic device, the method includes using patterned photoresist masks and etching reagents to etch away regions or portions of an elastomeric layer of the elastomeric block.
les méthodes fournies comprennent une méthode pour former des voies en parallèle dans une couche élastomère d'un bloc élastomère d'un dispositif microfluide, la méthode comprenant l'utilisation de masques photorésistants imprimés et de réactifs d'attaque pour détacher des zones ou des portions d'une couche élastomère du bloc élastomère.
