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steam unsaturation percentage
pourcentage de non saturation de vapeur

maximum degree of steam unsaturation and overheating in the chamber
dégrée maximum de non saturation et de surchauffe de la vapeur dans la chambre

a process for supplying plants for the coating of substrates involves introducing the substrates batchwise into the vacuum plant and, subsequently, dividing said batches into single substrates in order to allow recovery of the unsaturation percentage, which is connected to the method used to feed in the batch
un procédé d'alimentation d'installations destinées au revêtement de substrats et consistant à introduire les substrats par lots dans l'installation de vide et, ensuite, à diviser lesdits lots en substrats individuels afin de permettre la récupération du pourcentage d'insaturation, selon le procédé utilisé pour l'acheminement du lot

a process for supplying plants for the coating of substrates involves introducing the substrates batchwise into the vacuum plant and, subsequently, dividing said batches into single substrates in order to allow recovery of the unsaturation percentage, which is connected to the method used to feed in the batch.
l'invention concerne un procédé d'alimentation d'installations destinées au revêtement de substrats et consistant à introduire les substrats par lots dans l'installation de vide et, ensuite, à diviser lesdits lots en substrats individuels afin de permettre la récupération du pourcentage d'insaturation, selon le procédé utilisé pour l'acheminement du lot.

a process for supplying plants for the coating of substrates involves introducing the substrates batchwise into the vacuum plant and, subsequently, dividing said batches into single substrates in order to allow recovery of the unsaturation percentage, which is connected to the method used to feed in the batch. the device suitable to provide this process is made up of transport sections capable of giving the substrates forming the batch different speeds from one another, so as to separate them and line them up, with a pre-set constant spacing, in a continuous line of substrates feeding the process chambers (b3, c3).
l'invention concerne un procédé d'alimentation d'installations destinées au revêtement de substrats et consistant à introduire les substrats par lots dans l'installation de vide et, ensuite, à diviser lesdits lots en substrats individuels afin de permettre la récupération du pourcentage d'insaturation, selon le procédé utilisé pour l'acheminement du lot. le dispositif apte à la mise en oeuvre de ce procédé comprend des parties de transport capables de donner les substrats formant le lot à différentes vitesses les uns par rapport aux autres, de manière à les séparer et à les aligner, avec un espacement constant préétabli, dans une chaîne continue de substrats alimentant les chambres de traitement (b3, c3).