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sorde-l-abbaye (40)
sorde-l-abbaye (40)
Ultimo aggiornamento 2018-02-13
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:
sorde-l'abbaye est une commune française située dans le département des landes en région aquitaine.
sorde-l'abbaye is a french commune, in the department of landes and the region of aquitaine.
Ultimo aggiornamento 2016-03-03
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:
au détour d'un large méandre, vous découvrirez la bastide de sorde qui abrite une ancienne abbaye et une église.
in the bend of a wide twist you will discover the walled town of sorde which shelters a former abbey and a church.
Ultimo aggiornamento 2018-02-13
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:
il existe plusieurs calvaires dont la croix de saint-michel qui marquait les limites de l'abbaye de sorde.
*there are several calvaries including a cross of saint-michel which formerly marked the boundaries of the abbey of sorde.
Ultimo aggiornamento 2016-03-03
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:
la maison maisonnabe date de 1661 au quartier des mirails ; la maison pouey est une ancienne justice seigneuriale et la maison haû, une ancienne dépendance de l'abbaye de sorde.
*the maisonnabe house in the mirails district dates to 1661;*the pouey house is an old manor house of justice*the hau house is a former dependency of the abbey of sorde.
Ultimo aggiornamento 2016-03-03
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità:
par ailleurs - le diamètre usuel du faisceau de sorde d'une telle source ecr, typiquement de quelques millimètres, ainsi que l'utilisation de gaz simples tels que l'hydrogène, le néon, le xénon, l'argon, l'oxygène, le tungstène ou le titane, autorisent aisément l'emploi d'une telle source dans des , applications de séparation isotropique mais rendent cette source inadaptable telle quelle pour des applications d'implantation d'ions multichargés dans le domaine de la microélectronique et en outre inutilisable telle quelle dans les implanteurs industriels standard.
moreover, the usual diameter of the output beam of such an ecr source, typically a few millimeters, as well as the use of simple gases such as hydrogen, neon, xenon, argon, oxygen, tungsten or titanium, easily allow the use of such a source in applications of isotropic [sic] separation but render this source, as it is, unsuitable for applications of multiply-charged ion implantation in the microelectronics field and also unable to be used, as it is, in standard industrial implanters.
Ultimo aggiornamento 2014-12-03
Frequenza di utilizzo: 1
Qualità: