Hai cercato la traduzione di lithography da Inglese a Arabo

lithography
طباعة حجرية

offset lithography
طِبَاعَةٌ بِالأُوْفسِيت ; طِبَاعَةُ أُوفْسِيت

lithograph, lithography
طباعة الحجرية

intaglio or lithography blankets
بطانيات نقش أو طباعة حجرية

intaglio or lithography hot plates
ألواح نقش أو طباعة حجرية ساخنة

intaglio or lithography printing presses
كابسات نقش أو طباعة حجرية ساخنة

i design silicon lithography for personal gain.
إنني أصمّم طباعة سيليكون حجرية لمصلحتي الشخصية

i mean, it's perfect. they do lithography.
أعني أن هذا رائع إنهم يقومون بالطباعة على الحجر

it allowed calligraphic writing without the problems of lithography.
فقد سهلت على الخطاطين الكتابة دون مشاكل الليثوغرافيا (الطباعة الحجرية).

therefore, urdu resorted to lithography while other languages adopted typeset.
لذلك، لجأ خطاطوا لغة الأردو لليثوغرافيا (الطباعة الحجرية) فيما استخدمت اللغات الأخرى الطابعات الحديثة.

resist materials, semiconductor lithography conventional section: p. 203, 3.c.2
ي- منظومات الطاقة التي تعمل دون حاجة إلى هواء، المصممة خصيصا لاستخدامها تحت الماء.

afsar shaheen comments in a post of luthfispace elaborating why lithography is still being adopted:
علق افسار شاهين على منشور على لوتفسبيس يشرح سبب استمرار تبني الليثوغرافيا(الطباعة الحجرية وهي الطباعة باستخدام ألواح من الحجر أو المعدن):

for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3.b.1.
3 - كاميرات تكوين الصور التي بها أنابيب لتوضيح الصورة بالخصائص المدرجة في البند 6-ألف-2-أ-2-أ؛

"features " related to any characteristic of system components boreholes, lithography or nearby communities.
وتتعلق "السمات " بأي خاصية من خصائص نظام مكونات الحُفر، والنقش الحجري والمجتمعات القريبة.

positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
أ - المواد المقاومة الموجبة المصممة للطباعة الكيميائية على أشباه الموصلات المعدلة (التي رفعت كفاءة أدائها) خصيصا لتستخدم أطوال موجات أقل من 350 نانومتر؛

positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
(ج) تزيد فولطية الخرج عن 2 فولط في مقاومة قدرها 55 أوم أو أقل (ويناظر هذا خرجا يزيد عن 16 ديسيبيل في نظام مقاومته 50 أوم).

equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (cvd), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.
أ-1- معدات ومواد للحفر بالبلازما، وترسيب الأبخرة الكيميائية، والطباعة الكيميائية، والطباعة الكيميائية بالستائر والستائر، ومقاومات الضوء.

equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (cvd), lithography, mask lithography, masks, and photoresists;
(أ) فولطية الخارج تزيد عن 6 فولط في حمل مقاوم يقل عن 55 أوم؛

expressions referring to writing shall, unless the contrary intention appears, be construed as including references to printing, lithography, photography, and other modes of representing or reproducing words in a visible form..
تجدر الإشارة إلى أن التعبيرات التي تشير إلى الكتابة, ما لم يظهر لها مغزى مخالف, سيتم تفسيرها على أنها إشارات ضمنية للطباعة والطباعة المستوية والتصوير, وغير ذلك من أشكال تقديم الكلمات أو إعادة إصدارها في شكل مرئي.

a.l. equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (cvd), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.
أ-1- معدات ومواد للحفر بالبلازما، وترسيب الأبخرة الكيميائية، والطباعة الكيميائية، والطباعة الكيميائية بالستائر والستائر، ومقاومات الضوء.