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mount for berek compensator
monture pour compensateur de berek

the optical birefringence Δn is measured with a polarizing optical microscope equipped with a compensator of berek type.
la biréfringence optique Δn est mesurée avec un microscope optique polarisant équipé d'un compensateur de type berek.

the birefringence of these films is itself measured with the same polarizing microscope equipped with a compensator of berek type.
la biréfringence de ces films est elle-même mesurée avec le même microscope polarisant équipé d'un compensateur de type berek.

the present invention is a mount for optical instruments, and particularly, for a berek compensator having a birefringent crystal, which can be both tilted and rotated by structure of adjustment rings which are concentric to the optical path of the device.
l'invention concerne une monture pour instrument optique, et notamment pour un compensateur de berek doté d'un cristal biréfringent, pouvant être à la fois inclinée et mise en rotation par une structure de bagues de réglage concentriques par rapport au parcours optique du dispositif.

the variable compensation components can be variable wave plates, layered wave plates, opposing mirrors, a berek's compensator and/or a soleil-babinet compensator
ces composants peuvent être des plaques à onde variable, des plaques à ondes en couches, des miroirs opposés, un compensateur de berek et/ou un compensateur de soleil-babinet

an optical reduction system with polarization dose sensitive output for use in the photolithographic manufacture of semiconductor devices having variable compensation for reticle retardation before the long conjugate end. the variable compensation component(s) before the reticle provides accurate adjustment of the polarization state at or near the reticle. the variable compensation components can be variable wave plates, layered wave plates, opposing mirrors, a berek's compensator and/or a soleil-babinet compensator. the catadioptric optical reduction system provides a relatively high numerical aperture of 0.7 capable of patterning features smaller than 0.25 microns over a 26 mm x 5 mm field. the optical reduction system is thereby well adapted to a step and scan microlithographic exposure tool as used in semiconductor manufacturing. several other embodiments combine elements of different refracting power to widen the spectral bandwidth which can be achieved.
l'invention concerne un système de réduction optique avec une sortie sensible à une quantité de polarisation, destiné à la fabrication par photolithographie de dispositifs semi-conducteurs, et possédant une compensation variable pour le retard optique du réticule avant l'extrémité conjuguée longue. le ou les composants de compensation variable avant le réticule permet un ajustement précis de l'état de polarisation au réticule ou à son voisinage. ces composants peuvent être des plaques à onde variable, des plaques à ondes en couches, des miroirs opposés, un compensateur de berek et/ou un compensateur de soleil-babinet. le système de réduction optique catadioptrique met en oeuvre une ouverture numérique relativement élevée de 0,7 permettant de modeler des caractéristiques inférieures à 0,25 microns sur un champ de 26 mm x 5 mm. le système de réduction optique est ainsi bien adapté à un outil d'exposition microlithographique à balayage progressif utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. plusieurs autres réalisations concernent une combinaison d'éléments de différentes puissances de réfraction afin d'élargir la largeur de bande spectrale qui peut être réalisée.