Hai cercato la traduzione di electron beam or beta irradiation da Inglese a Lettone

electron beam; or
elektronu staru kūli; vai

b. electron beam; or
b. elektronu staru kūli; vai

electron beam;
elektronu kūli;

electron-beam recorders
elektronstaru ierakstītāji

electron beam physical vapour deposition
fizikāli termiskā pārklāšana elektronu kūlī

using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
izmanto novirzītu fokusētu elektronu staru kūli, jonu staru kūli vai "lāzera" staru kūli; un

this includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
pie jonu implantācijas pieder arī procesi, kuros jonu implantāciju veic reizē ar elektronu staru kūļa vai uzputināšanas pārklāšanu.

electron beam pvd uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
fizikāli termiskā tvaiku pārklāšanai elektronu kūlī materiālu, no kura veido pārklājumu, uzkarsē un iztvaicē ar elektronu kūli;

electron beam melting furnaces and plasma atomization and melting furnaces, having both of the following characteristics:
elektronu staru kūļa vai plazmas atomizācijas krāsnis ar abiem šiem parametriem:

b. electron beam melting furnaces and plasma atomisation and melting furnaces, having both of the following characteristics:
b. elektronu staru kūļa vai plazmas atomizācijas krāsnis ar abiem šiem parametriem:

computer controlled or "numerically controlled" electron beam welding machines, and specially designed components therefor.
datorkontrolētas vai "ciparu kontroles" elektronu staru metināšanas iekārtas, un tām īpaši paredzētas sastāvdaļas.

it was then thermal fatigue tested at fe200, a 200 kw electron beam facility, run by cea/areva also in france.
pēc tam termiskais nogurums tika pārbaudīts fe200, 200 kw elektronu staru iekārtā, kas arī atrodas francijā, cea/areva.

all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better;
visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietošanai elektronstaru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām, jutība ir 0,01 coulomb/mm vai augstāka;

b. all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 μcoulomb/mm2 or better;
b. visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam elektronu staru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām, ar jutību ir 0,01 mikrokuloni/mm2 vai lielāku;

the use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Šās tehnikas modifikācijas ir jonu vai elektronu staru kūļa vai plazmas izmantošana pārklāšanas procesa aktivizēšanai.

machine-tools for working any material by removal of material, operated by electro-chemical, electron-beam, ionic-beam or plasma arc processes
darbagaldi dažādu materiālu apstrādei, noņemot materiālu ar elektroķīmisko, elektronu starojuma, jonu starojuma vai plazmas loka procesu palīdzību

machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes
darbgaldi dažādu materiālu apstrādei, pielietojot materiālu absorbciju, lāzera vai citu gaismas vai kvantu starojumu, ar ultraskaņu, elektriskā loka izlādi, elektroķīmiskus procesus, elektronu starojumu, jonizējošo starojumu vai apstrādi plazmas lokā

electron beam physical vapour deposition (eb-pvd) production equipment incorporating power systems rated for over80 kw and having any of the following:
elektronu kūļa fizisko tvaiku pārklājumu (eb-pvd) iekārtas, kas satur energosistēmas ar jaudu lielāku par 80 kw, un kam ir jebkas no še uzskaitītā:

machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes and parts and accessories thereof
darbgaldi dažādu materiālu apstrādei, noņemot tos ar lāzeru vai citu gaismas vai fotonu staru kūli, ultraskaņu, elektrisko izlādi, elektroķīmiskos, jonu stara vai plazmas loka procesos, un to detaļas un piederumi

c. does not control accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) nor those designed for medical purposes:
saskaņā ar 3a201.c. pozīciju kontroli neattiecina uz paātrinātājiem, kuri ir tādu iekārtu sastāvdaļas, kas paredzētas citiem nolūkiem, izņemot elektronu staru kūļa vai rentgenstaru iegūšanai, elektronu staru mikroskopiem), kā arī medicīniskajām iekārtām paredzētos: