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utilizzanti un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio "laser"; e
a) verwendung von abgelenkten, fokussierten elektronenstrahlen, ionenstrahlen oder "laser"strahlen und
Ultimo aggiornamento 2012-06-08
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apparecchiature appositamente progettate per la produzione di maschere o per il trattamento di dispositivi semiconduttori, utilizzanti un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio "laser", aventi una delle caratteristiche seguenti:
anlagen, besonders konstruiert für die maskenherstellung oder die herstellung von halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte elektronenstrahlen, ionenstrahlen oder "laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden eigenschaften:
Ultimo aggiornamento 2014-11-15
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