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reactores de deposição de organometálicos em fase vapor por processo químico (mocvd) especialmente concebidos para o crescimento de cristais de semicondutores compostos através de reacção química entre materiais referidos em 3c003 ou 3c004;
réacteurs de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique organométallique (mocvd) spécialement conçus pour la croissance cristalline de semi-conducteurs composés par réaction chimique entre des matériaux visés aux paragraphes 3c003 ou 3c004;