検索ワード: photoelasticity (英語 - フランス語)

photoelasticity
photo-élasticité

study in photoelasticity
étude en photoélasticité

photoelasticity measuring method, and apparatus therefor
procÉdÉ et appareil de mesure de la photoÉlasticitÉ

numerical analysis acrylic models photoelasticity estimation of local stress
calcul numérique modèles acryliques photoélasticimétrie estimation de la contrainte locale comparaison avec des mesures sur gros noeuds en acier

three-dimensional photoelasticity studies with the use of the frozen stress method
essais de photo-élasticimétrie tridimensionnelle par figeage des contraintes

the resulting classification was the same as that obtained by measuring stress concentrations by photoelasticity.
on est arrivé à un certain classement qui est le même que celui obtenu en mesurant les concentrations de tension par photoélasticité.

key words: homogenization, layered soils, photoelasticity, finite element analysis.
mots-clés : homogénéisation, sols avec couches, photoélasticité, analyse en éléments finis.

this paper begins by demonstrating using photoelasticity the importance of taking into account layering details.
cet article commence par démontrer par photoélasticité l'importance de considérer les détails des couches.

method of measuring a sound pressure distribution in a solid body due to a ultrasonic probe by using photoelasticity
procédé de mesure de la distribution de pression de son dans un corps solide à cause d'un capteur ultrasonique à l'aide de photoélasticité

it is excellent in heat resistance and significantly reduced in specific gravity, birefringence, photoelasticity, and wavelength dispersion
ce film possède une excellente résistance thermique, une gravité spécifique considérablement réduite, une biréfringence, une photo-élasticité et dispersion en longueur d'onde excellentes

it is excellent in heat resistance and significantly reduced in specific gravity, birefringence, photoelasticity, and wavelength dispersion.
ce film possède une excellente résistance thermique, une gravité spécifique considérablement réduite, une biréfringence, une photo-élasticité et dispersion en longueur d'onde excellentes.

the polycarbonate copolymer of claim 3, which has a photoelasticity coefficient of 60 x 10 -13 cm 2 /dyne or less.
copolymère de polycarbonate selon la revendication 3, qui a un coefficient de photoélasticité de 60 x 10 -13 cm 2 /dyne ou moins.

the first optical compensation layer has the absolute value of photoelasticity coefficient not larger than 40 × 10 -12 and has relations expressed by formulas and
la première couche de compensation optique présente un coefficient de photo-élasticité qui, exprimé en valeur absolue, est inférieur ou égal à 40 × 10 -12 et se caractérise par des relations définies par les formules et

the apparatus described in this text can be used in reflectometry, polarimetry, photoelasticity measurement and also in ellipsometry of thin films, in order to follow their growth or their etching as the case may be.
l'appareil décrit dans ce texte peut être utilisé en réflectométrie, polarimétrie, photoélasticimétrie, et aussi en ellipsométrie des couches minces, afin de suivre leur croissance ou leur gravure selon le cas.

disclosed is a stable optical element which has excellent brittle properties, low birefringence, low photoelasticity, less haze and less odor, while being suppressed in birefringence changes which are caused by temperature/humidity changes
l'invention concerne un élément optique stable qui présente d'excellentes propriétés de fragilité, une faible biréfringence, une faible photoélasticité, un voile moindre et une odeur moindre tandis que les changements de biréfringence qui sont causés par les changements de température/humidité sont supprimés

(nx1-ny1) · d1 = 200 -300 nm, the optical compensation layer has a relation nx2 > ny2 > nz2, contains resin having the absolute value of photoelasticity modulus of up to 2.0 × 10 -11 m2/n, and has a front phase difference
(nx1-ny1) · d1 = 200 -300 nm, la couche de compensation optique possède une relation nx2 > ny2 > nz2, contient une résine ayant une valeur absolue de module de photoélasticité allant jusqu'à 2,0 × 10 -11 m2/n, et une différence de phase frontale