プロの翻訳者、企業、ウェブページから自由に利用できる翻訳レポジトリまで。
翻訳の追加
lithography
lithografie
最終更新: 2014-11-14 使用頻度: 10 品質: 参照: IATE
colour lithography
kleurensteendrukkunst
最終更新: 2014-11-14 使用頻度: 5 品質: 参照: IATE
photo-lithography
fotolithografie
最終更新: 2014-11-15 使用頻度: 10 品質: 参照: IATE
glass for lithography
glas voor reproduktiedoeleinden
lithography equipment as follows:
lithografische apparatuur, als hieronder:
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 5 品質: 参照: IATE
stored programme controlled lithography
met opgeslagen programma bestuurde lithografie
最終更新: 2019-05-31 使用頻度: 6 品質: 参照: IATE
f. lithography equipment as follows:
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 1 品質: 参照: IATE
step and flash imprint lithography (s-fil) tools
apparatuur voor s-fil (step and flash imprint lithography);
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 4 品質: 参照: IATE
planographic techniques include lithography, monotyping, and digital techniques.
offset is tegenwoordig geheel afhankelijk van digitale technieken geworden.
最終更新: 2016-03-03 使用頻度: 1 品質: 参照: IATE
current lithography still relies on photo masks for that purpose.
momenteel wordt in de sector voor dat doel nog gebruik gemaakt van fotomaskers.
最終更新: 2017-04-26 使用頻度: 1 品質: 参照: IATE
for optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor optische spiegels die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
therefore, urdu resorted to lithography while other languages adopted typeset.
daarom werd voor urdu lithografie gebruikt, terwijl andere talen werden gezet.
最終更新: 2016-02-24 使用頻度: 1 品質: 参照: IATE
i. imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3a001.
i. imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3a001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 2 品質: 参照: IATE
for excimer “lasers” specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor excimeer-„lasers” die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
’aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
n.b.:voor ’asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
for ‘aspheric optical elements’ specially designed for lithography equipment, see 3b001.
voor ‚asferische optische elementen’, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: for aspheric optical elements specially designed for lithography equipment, see 3b001.
nb: voor asferische optische elementen, speciaal ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
n.b.: for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001
nb: voor excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 3 品質: 参照: IATE警告:見えない HTML フォーマットが含まれています
n.b.:for excimer "lasers" specially designed for lithography equipment, see 3b001.
excimeer-"lasers" die speciaal zijn ontworpen voor lithografische apparatuur, zie 3b001.
最終更新: 2014-11-21 使用頻度: 1 品質: 参照: IATE警告:見えない HTML フォーマットが含まれています